JC Nabity(美國(guó))

JC Nabity

美國(guó)JCNabityLithographySystems www.jcnabity.com美國(guó)JCNabityLithographySystems成立于1988年.公司成功研發(fā)了基于改造商品SEM、STEM或FIB的電子束曝光裝置（NanometerPatternGenerationSystem納米圖形發(fā)生系統(tǒng)，簡(jiǎn)稱NPGS，又稱電子束微影系統(tǒng)）。電子束曝光技術(shù)具有可直接刻畫精細(xì)圖案的優(yōu)點(diǎn)，且高能 電子的波長(zhǎng)短（ NPGS的技術(shù)目標(biāo)是提供一個(gè)功能強(qiáng)大的多樣化簡(jiǎn)易操作系統(tǒng)，結(jié)合使用市面上已有的掃描電鏡、掃描透射電鏡或聚焦離子束裝置，用來實(shí)現(xiàn)藝術(shù)級(jí)的電子束或離子束平版印刷技術(shù)。NPGS能成功滿足這個(gè)目的，得到了當(dāng)前眾多用戶的強(qiáng)烈推薦和一致肯定。JCNabityLithographySystemsisthecompanyIstartedasagraduatestudentin1988afteritbecameapparentthattheNanometerPatternGenerationSystem(NPGS)wassignificantlybetterthananycommercialSEMbasedlithographysystemavailableatthetime.Throughwordofmouthrecommendationsalone,salesincreasedasIfinishedmyPh.D.inPhysics,andattheendof1991,Ibega