特點： 

· 易于安裝

· 基于視窗結構的軟件，很容易操作

· 先進的光學設計，以確保能發揮出的系統性能

· 基于陣列設計的探測器系統，以確保快速測量

· 獨特的光源設計，有著較好的光源強度穩定性

· 有四種方法來調整光的強度：

§ 通過電源的調節旋鈕來調節電源輸出的大小

§ 在光輸出端口濾光槽內調整濾光片來調整

§ 調整光束大小

§ 通過TFProbe軟件，在探測器里調整積分時間

· 多可測量5層的薄膜厚度和折射率

· 在毫秒的時間內，可以獲得反射率、傳輸率和吸收光譜等一些參數 

· 能夠用于實時或在線的厚度、折射率測量

· 系統配備大量的光學常數數據及數據庫

· 對于每個被測薄膜樣品，用戶可以利用先進的軟件功能選擇使用NK數據庫、也可以進行色散或者復合模型（EMA）測量分析；   

· 可升級至MSP（顯微分光光度計）系統，SRM成像系統，多通道分析系統，大點測量。

· 通過模式和特性結構直接測量。

· 能夠應用于不同類型、不同厚度的基片測量。

· 提供的各種配件可用于特殊結構的測量，例如通過曲線表面進行縱長測量。

· 2D和3D的圖形輸出和友好的用戶數據管理界面。

系統配置： 

· 型號：SR500R

· 雙探測器：對于紫外可見光用CCD，對于近紅外使用InGaAs探測器

· 光源：氘和鹵素燈

· 光傳送方式：光纖

· 臺架平臺：特殊處理鋁合金，能夠很容易的調節樣品重量，200mmx200mm的大小

· 軟件： TFProbe 2.2版本的軟件

· 通訊接口：USB的通訊接口與計算機相連

· 測量類型：薄膜厚度，反射光譜，折射率 

· 電腦硬件要求：P3以上、50 MB的空間

· 電源：110–240V AC/50-60Hz，1.5A

· 保修：一年的整機及零備件保修

規格： 

· 波長范圍：250nm到1700 nm

· 光斑尺寸：500μm至5mm

· 樣品尺寸：200mmx200mm或直徑為200mm

· 基板尺寸：多可至50毫米厚

· 測量厚度范圍*：2nm?150μm

· 測量時間：快2毫秒 

· 精確度*：優于0.5％（通過使用相同的光學常數，讓橢偏儀的結果與熱氧化物樣品相比較）

· 重復性誤差*：小于1 ?

應用:                  

· 半導體制造（PR，Oxide, Nitride..) 

· 液晶顯示（ITO，PR，Cell gap... ..） 

· 醫學，生物薄膜及材料領域等

· 油墨，礦物學，顏料，調色劑等

· 醫藥設備

· 光學涂層，TiO2, SiO2, Ta2O5... .. 

· 半導體化合物

· 在MEMS/MOEMS系統上的功能性薄膜

· 非晶體，納米材料和結晶硅