- 品牌/商標(biāo)：View
- 企業(yè)類型：貿(mào)易商
- 新舊程度：全新
View Micro-Metrology非接觸式光學(xué)三坐標(biāo)測量儀的詳細(xì)介紹
View Micro-Metrology非接觸式光學(xué)三坐標(biāo)測量儀(VMM)是一家的AOI光學(xué)檢測設(shè)備供應(yīng)商，生產(chǎn)適合過程控制測量應(yīng)用的全自動(dòng)高影像三坐標(biāo)測量系統(tǒng)和顯微量測系統(tǒng)。
View Micro-Metrology非接觸式光學(xué)三坐標(biāo)測量儀以其獨(dú)特的固定雙倍放大倍率光學(xué)系統(tǒng)、卓越的光源性能、強(qiáng)大靈活的軟件系統(tǒng)、先進(jìn)的機(jī)動(dòng)運(yùn)行控制以及非線性偏差修正技術(shù)而專長。其高速度、高的測量性能持續(xù)受到全世界客戶的追崇，有效控制了客戶的成本支出。
加工制造和裝配持續(xù)朝著微型化、自動(dòng)化發(fā)展，同樣，檢測技術(shù)也日趨要求高、高速度的檢測測量方案。很多測量技術(shù)都能提供高測量，但僅有部分能把準(zhǔn)確的測量和高產(chǎn)能商化于一體。然而View Micro-Metrology非接觸式光學(xué)三坐標(biāo)測量儀卻將現(xiàn)代檢測需要的這一苛刻檢測性能要求集于一體，滿足全自動(dòng)高速的過程測量應(yīng)用。View Micro-Metrology非接觸式光學(xué)三坐標(biāo)測量儀以結(jié)果證明其言行，View以其可追述至美國國家標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)研究院NIST的可靠的性能和服務(wù)于世界60多個(gè)國家，以所測得數(shù)據(jù)回饋客戶，將客戶風(fēng)險(xiǎn)降至，有效控制成本！測量儀器，View Micro-Metrology非接觸式光學(xué)三坐標(biāo)測量儀是您正確的選擇伙伴，您會(huì)體會(huì)到與眾不同的優(yōu)勢！
View Micro-Metrology非接觸式光學(xué)三坐標(biāo)測量儀適用范圍：
- 半導(dǎo)體封裝、
- SMT組裝、裝配
- 絲網(wǎng)印刷、PCB
- BGA&QFP、Bump on die、solder paste
- 引線架Leadframes、探針卡
- LED封測
- 光纖、
- photomask、MEMS
- 晶圓級(jí)檢測、測量等應(yīng)用。
- 1976年推出世界臺(tái)高速影像測量光學(xué)三坐標(biāo)；
- 花崗巖鑄鐵基底平臺(tái)，穩(wěn)定可靠，運(yùn)動(dòng)平穩(wěn)；
- 全鼠標(biāo)、手柄操作，簡單易用；
- 亞微米分辨率
- 全自動(dòng)尋邊功能
- 固定雙倍率光學(xué)鏡頭，1X/4X高低倍率瞬時(shí)切換，無需變焦，重復(fù)性高
- 1:10~1：50亞像素分辨率，保證高重復(fù)性和準(zhǔn)確的弱邊尋邊
- 程控彩色環(huán)形表面光源PRL，LED輪廓光源，同軸光源，角度和方向可調(diào)控，增強(qiáng)表面檢測性能
- 的Rochi自動(dòng)聚焦技術(shù)，增強(qiáng)Z軸聚焦性能
- 獨(dú)特的Z軸測高功能，可加裝激光測頭
- VMS全自動(dòng)可編程影像測量、數(shù)據(jù)分析軟件，多種輸出方式（CAD、notepad、excel）
Pinnacle 250
◆ 測量系統(tǒng)尺寸(W x D x H)：795 x 953 x 1750 mm
◆ 線性馬達(dá)控制
◆ 測量：E2 (XY) = (2.0 + 5L/1000)um，
E1 (Z-axis) = (3.0 + 5L/1000)um
L：測量長度mm
◆ 1/10~1/50的亞像素, 2.5X標(biāo)配鏡頭(低倍2.5X，高倍10X)
◆ 光源：LED背光、LED同軸表面光
◆ 承載力：25kg
適用于：微小、緊公差工件，高密度、復(fù)雜特征尺寸部件，如精密沖壓件以及芯片級(jí)封裝等。
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Benchmark 250 緊湊型臺(tái)式系統(tǒng)
◆ 測量范圍(XYZ)：300 x 150 x 150 mm◆ 分辨率：0.5um
◆ 測量系統(tǒng)尺寸(W x D x H)：720 x 775 x 873 mm
◆ 伺服馬達(dá)控制
◆ 測量：E2 (XY) = (2.0 + 5L/1000)um，
E1 (Z-axis) = (3.0 + 5L/1000)um
L：測量長度mm
◆ 1/10~1/50的亞像素, 1.0X標(biāo)配鏡頭(低倍1.0X，高倍4X)
◆ 光源：LED背光、LED同軸表面光
◆ 承載力：25kg
適用于：注塑部件、機(jī)械部件、電子元件組裝、半導(dǎo)體封裝、光纖器件、磁盤介質(zhì)基板、記錄芯片或 150mm 以內(nèi)的晶圓產(chǎn)品。
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Benchmark 450 中行程測量系統(tǒng)
◆ 測量范圍(XYZ)：450 x 450 x 200 mm
◆ 分辨率： 0.5um
◆ 測量系統(tǒng)尺寸(W x D x H)：1210 x 1140 x 1700 mm
◆ 伺服馬達(dá)控制
◆ 測量：E2 (XY) = (2.5 + 5L/1000)um，
E1 (Z-axis) = (3.5 + 5L/1000)um
L：測量長度mm
◆ 1/10~1/50的亞像素, 1.0X標(biāo)配鏡頭(低倍1.0X，高倍4X)
◆ 光源：LED背光、LED同軸表面光
◆ 承載力：65kg
適用：注塑部件、絲網(wǎng)印刷模具、印刷電路板、焊錫膏環(huán)氧膠點(diǎn)、精密機(jī)械部件
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Summit 450/600/800
◆ 測量范圍(XYZ)：450 x 450 x 150 mm
◆ 分辨率： 0.1um
◆ 測量系統(tǒng)尺寸(W x D x H)：1016 x 1650 x 1930 mm
◆ 伺服馬達(dá)控制、線性馬達(dá)驅(qū)動(dòng)
◆ 測量：E2 (XY) = (2.0 + 6L/1000)um，- E1 (Z-axis) = (1.5 + 5L/1000)um
L：測量長度mm
◆ 1/10~1/50的亞像素, 2.5X標(biāo)配鏡頭(低倍2.5X，高倍10X)
◆ 光源：LED背光、LED同軸表面光
◆ 承載力：50kg
Summit 適用于: 較高需求的大型部件，如錫膏絲網(wǎng)印刷、藝術(shù)品、PCB、柔性電路以及微蝕刻部件。
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View Micro-Metrology可選配件：
◆ 物鏡：0.8x, 1.0x, 5x, 10x
◆ 光源： 多顏色（紅、綠、藍(lán)）可編程環(huán)形光PRL
◆ Rochi Grid自動(dòng)聚焦
◆ 透鏡激光光源TTL
◆ Digital megapixel camera
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View Micro-Metrology(VMM)顯微測量系統(tǒng)MicroLine 和Precis200 主要用于測量半導(dǎo)體、MEMS 晶圓、光刻掩模板等尺寸和涂覆物(多層套刻、圓、對(duì)接誤差等)量測。
MicroLine-300是一款桌上型手動(dòng)操作全自動(dòng)CD測量系統(tǒng)。
主要技術(shù)參數(shù)：
◆ 測量范圍(XYZ)：200×200×25mm；
◆ 視場內(nèi)測量：0.010um(100X 鏡頭)；
◆ 視場內(nèi)測量范圍：0.5um~400um；
◆ 視場內(nèi) 測量重復(fù)性(100x 物鏡)：晶圓上<0.010um(1δ)；
掩模板上0.005um(1δ)；
◆ 標(biāo)配鏡頭10x，可選鏡頭：5X, 20X, 50X, 100X
◆ 可視化自動(dòng)聚焦
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全新的Precis? 200是基于Micro-Metric的Innova晶圓量測系統(tǒng)開發(fā)而來，采用了VMM 公司先進(jìn)的設(shè)計(jì)和技術(shù)。
主要技術(shù)參數(shù)：
◆ 測量范圍(XYZ)：200×200×5mm；
◆ 測量：E2 (XY plane) = 0.25 + 2L/1000
◆ 直流伺服馬達(dá)驅(qū)動(dòng)
◆ 分辨率0.01um
◆ 視場測量和重復(fù)性：0.01 μm (100x)；
- Precis 主要用于以下應(yīng)用：
- 亞微米測量：
◆ 微器件和電子元器件封裝、引線框
◆ 微型球狀引腳柵格陣列封裝
◆ 硬盤驅(qū)動(dòng)臂、探針卡、刀片
- CD 和套刻測量：
◆ 線寬、涂覆層
◆ MEMS 器件、接觸窗、噴墨打印頭
◆ 硬盤驅(qū)動(dòng)頭、磁頭等
For more details, pls refer to : www.viewmm.com
