儀器簡介：
高，穩定顆粒發生和分級系統用來產生納米和亞微米（10~1000納米）單分散氣溶膠顆粒，用于精細顆粒研究，儀器校準和精細顆粒控制技術研究。系統由三部分組成：帶干燥器和靜電中和器（無放射源）的多分散氣溶膠發生器（PAG）；微分遷移率分析儀（DMA）；凝結核顆粒計數器（CPC）。DMA和CPC由一臺單板計算機單獨控制。
技術參數：
單分散氣溶膠發生系統：
單噴嘴霧化器-不銹鋼結構；
壓力：15~60 psig，壓力調節閥控制；
中位直徑：2微米（GSD<2.0）；
氣溶膠粒徑范圍：10~2000納米；
氣溶膠濃度：>10^7顆粒/cm3
微分遷移率分析儀：
入口氣溶膠流速：0.3~1.0L/min, 手動閥控制；
單分散氣溶膠流速：0.3~1.0L/min；
顆粒類型：固體或非揮發性液體；
主要特點：
應用：
精細顆粒研究；
儀器校準；
精細顆粒控制技術研究。
高，穩定顆粒發生和分級系統用來產生納米和亞微米（10~1000納米）單分散氣溶膠顆粒，用于精細顆粒研究，儀器校準和精細顆粒控制技術研究。系統由三部分組成：帶干燥器和靜電中和器（無放射源）的多分散氣溶膠發生器（PAG）；微分遷移率分析儀（DMA）；凝結核顆粒計數器（CPC）。DMA和CPC由一臺單板計算機單獨控制。
技術參數：
單分散氣溶膠發生系統：
單噴嘴霧化器-不銹鋼結構；
壓力：15~60 psig，壓力調節閥控制；
中位直徑：2微米（GSD<2.0）；
氣溶膠粒徑范圍：10~2000納米；
氣溶膠濃度：>10^7顆粒/cm3
微分遷移率分析儀：
入口氣溶膠流速：0.3~1.0L/min, 手動閥控制；
單分散氣溶膠流速：0.3~1.0L/min；
顆粒類型：固體或非揮發性液體；
主要特點：
應用：
精細顆粒研究；
儀器校準；
精細顆粒控制技術研究。
