NanoCalc 薄膜反射測量系統
薄膜的光學特性主要有反射和干涉.NanoCalc薄膜反射測量系統可以用來進行10nm~250µm的膜厚分析測量，對單層膜的分辨率為0.1nm。根據測量軟件的不同，可以分析單層或多層膜厚。
特點
可分析單層或多層薄膜
分辨率達0.1nm
適合于在線監測
操作理論
常用的兩種測量薄膜的特性的方法為光學反射和投射測量、橢圓光度法測量。NanoCalc利用反射原理進行膜厚測量。
查找n和k值
可以進行多達三層的薄膜測量，薄膜和基體測量可以是金屬、電介質、無定形材料或硅晶等。NanoCalc軟件包含了大多數材料的n和k值數據庫，用戶也可以自己添加和編輯。
應用
NanoCalc薄膜反射材料系統適合于在線膜厚和去除率測量，包括氧化層、中氮化硅薄膜、感光膠片及其它類型的薄膜。NanoCalc也可測量在鋼、鋁、銅、陶瓷、塑料等物質上的反射涂層、磨涂層等。
NanoCalc系統
NC-UV-VIS-NIR | |
重量： | 250-1100nm |
厚度： | 10nm-70µm |
光源： | 氘鹵燈 |
NC-UV-VIS | |
重量： | 250-850nm |
厚度： | 10nm-20µm |
光源： | 氘鹵燈 |
NC-VIS-NIR | |
重量： | 400-1100nm |
厚度： | 20nm-100µm (可選1µm-250µm) |
光源： | 鹵燈 |
NC-VIS | |
重量： | 400-850nm |
厚度： | 50nm-20µm |
光源： | 鹵燈 |
NC-NIR | |
重量： | 650-1100nm |
厚度： | 70nm-70µm |
光源： | 鹵燈 |
NC-NIR-HR | |
重量： | 650-1100nm |
厚度： | 70nm-70µm |
光源： | 鹵燈 |
NC-512-NIR | |
重量： | 900-1700 nm |
厚度： | 50nm-200µm |
光源： | 高亮度鹵燈 |
NanoCalc規格
入射角 | 90° |
層數 | 3層以下 |
需要進行參考值測量 | 是 |
透明材料 | 是 |
傳輸模式 | 是 |
粗糙材料 | 是 |
測量速度 | 100ms - 1s |
在線監測 | 可以 |
公差（高度） | 參考值測量或準直(74-UV) |
公差（角度） | 參考值測量 |
微黑子選項 | 配顯微鏡 |
顯示選項 | 配顯微鏡 |
定位選項 | 6"和12" XYZ 定位臺 |
真空 | 可以 |
