WDK2010—Z 三坐標非接觸式測量儀
一、非接觸測量儀特點:
以裂像聚焦指示器為測量原理, 采用高光學聚焦點檢測方式進行非接觸高低差測量。不可以對準目標影像, 還能觀察測量點的表面狀態(tài),對高度,深度,高低差等進行測量。本儀器的各種鏡筒還具有明暗場，微分干涉，金相組織，偏光等觀察功能。所以對金線弧高、細微的間隙高低差、夾雜物、微米以下的突起、細微劃痕進行觀察。
二、非接觸測量儀用途：
適用于硅片、IC、LCD、TFT、PCB、MEMS激光加工、晶片測試、半導體材料、線束加工蝕刻、液晶電池蓋、導線框架等產品的檢查觀察.也適用于經過磨拋、化學處理的工件表面的金相組織結構，幾何形狀進行顯微觀測。并且有三維的測量功能，其解析率達0.0005mm。因此是精密件，集成電路線寬，半導體芯片，光伏電池，光學材料等行業(yè)的用儀器。
三、非接觸測量儀主要規(guī)格：
1. 鏡筒：鉸鏈式三目頭部 30°傾斜 270°旋轉
2. 高眼點平場目鏡: WF10X/22
3.平場復消色差物鏡：(可根據(jù)使用需求選擇不同倍率的物鏡)
f=200mm用全平場復消色差物鏡/MPlan APO | ||||||
物鏡數(shù)據(jù) |
| |||||
倍率 | 2X | 5X | 10X | 20X | 50X | 100X |
NA | 0.055 | 0.14 | 0.28 | 0.42 | 0.55 | 0.55 |
W.D(mm) | 34 | 34 | 33.5 | 20 | 13 | 13 |
焦點距離(mm) | 100 | 40 | 20 | 10 | 4 | 2 |
分解率(μm) | 5 | 2 | 1 | 0.7 | 0.5 | 0.5 |
焦深(μm) | 91 | 14 | 3.58 | 1.6 | 0.9 | 0.9 |
4. 水平轉換器：五孔轉換器，可測量
5. 落射式照明系統(tǒng)：高亮度LED燈（5W）
6. 調焦結構：粗微動同軸調焦, 帶鎖緊和限位裝置，
粗動升降范圍30mm，微動格值，0.001mm*100格，數(shù)顯解析值 0.0005mm。
7. 光源：LED光源，1W，亮度可調
- Z軸升降范圍：38mm以內，手輪轉動130mm 允許工件 130mm，
導軌3+L/1000
X軸移動范圍：200mm 解析率：0.001mm 可解鎖手動快進，
Y軸移動范圍：100mm 解析率：0.001mm 可解鎖手動快進，
測量(3+L/100)um (L: 被測長度,um)
落射光測量誤差≤0.08%
9.Z軸采用裂像法原理進行觀察并測量，結合精密的Z軸導軌，可測量的準確度。
10.工作臺尺寸: 360mm*250mm 玻璃板尺寸: 225mm *175mm 工作臺承重: 30kg
11.儀器外型尺寸：380mm*550mm*830mm
12.凈重：100kg 毛重：120kg
