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NOVASCAN PSD-UV / PSDP-UV / PSDP-UVT系列 紫外臭氧清洗機
MYCRO的紫外光臭氧清洗設備已經用于納米技術，化學，生物學，光學，電子學，半導體和其他范圍內的科學實驗室。使用PSD 系列紫外臭氧清洗機的科研著作正持續增加。
MYCRO的PSD 和PSDP 系列是經過驗證有效的紫外臭氧清洗工藝設備。
典型應用包括： ·表面的原子級清洗 ·聚合物粘接 ·去除有機分子 ·釋放捕獲的無機分子 ·微流控制作 ·微米/納米構型 ·紫外光固化 ·表面化學改性 ·表面殺菌 ·表面氧化 ·金屬粘結準備…… |
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工作原理 ： PSD和PSDP系列產品通過產生185nm和254nm高強度UV光分解有機分子（污染物）。185nm的光可以將氧分子O2轉變成活性的O3臭氧分子。254nm的光同時激發表面的有機分子，使其更容易被臭氧分子吸收并分解。由于臭氧分子存在時間短并且同時也被254nm光分解，樣品臺可以調節樣品到燈管的距離來優化性能。PSD和PSDP分解有機污染物，然后形成CO2和H2O蒸氣，同時也將臭氧分子轉變成氧分子。 MYCRO的PSD 和PSDP 系列是經過驗證有效的紫外臭氧清洗工藝設備。 典型應用包括： ·表面的原子級清洗 ·聚合物粘接 ·去除有機分子 ·釋放捕獲的無機分子 ·微流控制作 ·微米/納米構型 ·紫外光固化 ·表面化學改性 ·表面殺菌 ·表面氧化 ·金屬粘結準備…… 樣品準備應用： 除了上述所說的應用外, PSD 系列清洗機常用于掃描探測顯微鏡的樣品應用，我們的設備能用于清洗原子力顯微鏡探針，掃描探針顯微鏡標準和表面上常規的油漬層和殘留的無機材料，也能用來改變物體表面的疏水性，有助于部件和表面的化學改性，經過氧化和硬化處理的探針有利于在掃描過程中保持探針的幾何形狀，削尖的探針有利于提高側向分辨率。 PSD 清洗機有效、容易使用、高質量、可靠、高性價比！ Novascan 設備已經用于納米技術，化學，生物學，光學，電子學，半導體和其他范圍內的科學實驗室。使用PSD 系列紫外臭氧清洗機的科研著作正持續增加。 樣品材料:硅 氧化硅 金屬 砷化鎵 氮化硅 云母 陶瓷 聚合物（有機玻璃） 硼硅玻璃 石英 藍寶石 其他材料 技術規格表： PSD 和PSDP 系統在外觀和尺寸方面相似，但是在控制能力，可升級性和加熱板選項方面有所不同。 PSD 系列：PSD系列產品是數字控制的臺式清洗設備，可以提供4×4英寸至12×16英寸的清洗尺寸。設備配備一個帶反射罩的高強度UV格柵燈盤, 和可調節高度的樣品臺，用于優化樣品位置和清洗效果。4英 寸或者更大尺寸的系統具有進出氣接口。該系統由一個方便的預設置控制器控制，非常容易操作。 ·預設置的數字控制器 ·方便簡單的兩按鍵操作 ·自動工作：15.30.45.60.90.120分鐘 ·工作進程可以在任何時候手工終止 ·系統不能提供加熱盤選項 ·經濟實用的設計使得PSD系列成為受歡迎的選擇 ·容易安裝和使用 PSD Pro 系統：PSDP 系列產品是研究級的紫外臭氧清洗系統，具有的靈活性，能滿足有機分子去除和其他眾多的應用。可以直接在空氣中操作，或是通過其中一個進氣口通入氧氣來增加臭氧產生。可編程數字控制器可以控制系統進程，來確保時間和優化清洗參數。 ·可編程數字控制器 ·數字顯示倒計時 ·輕松升級到熱盤選項 ·可執行暫停和終止指令 ·內部存儲器用于記錄之前的參數設置 —— 一個強大的系統，提供了增強的進程控制！ PSDP 內置加熱盤系列： PSDP-UVT 新增加一個加熱盤，將PSDP-UV的能力提升到了新的水平，使其能化的分解有機分子物質。帶PID反饋回路的數字控制器能精準保持熱盤的溫度，溫度范圍可達150攝氏度。 ·和PSDP相同，但標準配置加熱盤 ·高利用率和高靈活性 ·適應多用戶環境 一般特性： 電 源：100.120.220.240VAC.50-60周期。 樣品高度：所有系統都配置可調節高度的樣品臺，調節燈與樣品之間的間距，并帶位置鎖定，標準樣品臺尺寸為UV格柵燈大小或更大。 UV格柵燈：產生臭氧的低壓汞格柵燈，帶反射罩。燈管壽命大約為5000小時。 UV反射罩：UV反射罩一般比UV格柵燈大一英寸。比如4×4英寸燈管反射罩尺寸是5×5英寸。 樣品放置：打開清洗腔上蓋，露出樣品臺，允許360度裝入樣品。 安全裝置：當清洗腔打開時，系統安全鎖會關掉UV燈。 進出氣口：標準配置2個氣接口，可選更多。（PSD-UV3為選項） 真空反應腔：選項客戶化定制，鋁或石英材料。 溫度范圍：150攝氏度。（PSDP-UVT 標準配置或者PSDP 升級選項） 臭氧中和器：中和器和泵用于臭氧排除。（PSD和PSDP選項） 需要更詳細的關于紫外臭氧清洗機方面的產品咨詢， 請與邁可諾技術有限公司中國營銷服務中心區域辦公室聯系! |
