Q150T的機殼是整體成型的結構堅固耐用，配有氣冷的70L/S的渦輪分子泵，自動進氣控制了濺射期間的真空水平，真空腔室直徑為165mm(6.5英寸)并帶有爆裝置。Q150T具有“真空閉鎖”功能，可在設備不工作時維持腔室的真空度，從而高真空的性能。

根據不同的應用方向，Q150T細分為三個型號：

• Q150TS：高分辨率濺射鍍膜儀，可濺射易氧化和不易氧化金屬，可選各種濺射靶材，包括場發射電鏡常用的銥和鉻。

• Q150TE：高真空鍍碳儀，可制作高穩定的碳膜和表面覆形膜，是TEM應用理想的選擇。

• Q150T：了離子濺射和熱蒸鍍兩種真空沉積鍍膜方式，鍍膜頭可在幾秒內快速更換，只能邏輯系統自動識別所裝的鍍膜頭類型，并顯示相應的操作模式。

注：上述各型號都可配備如下可選的附件：金屬蒸鍍、碳絲蒸鍍、膜厚測量等

觸摸屏控制：

Q150T操作十分簡單，直觀的觸摸屏，即使不熟練的操作者也可以自由操作，同時可方便的鍵入和存儲數據。為了方便使用，設備中已經預存一些了典型的濺射和蒸發鍍膜參數資料。

鍍膜頭選項：

具有一系列可互換、即插即用的鍍膜頭

• 濺射頭適用于易氧化和不易氧化金屬材料。直徑57mmX0.3mm厚鉻靶為標準靶材。

• 可用另外的濺射頭來快速更換鍍膜材料（為TS和T型號）

• 適用于3.05mm碳棒蒸發頭

• 適用于6.15mm碳棒蒸發頭，建議使用3.05mm直徑的碳棒，它們更容易控制、更經濟。

• 碳絲蒸發頭

• 金屬蒸發和光闌潔凈頭，包括向上蒸發或向下蒸發（為TE和T型號）

樣品臺選項

Q150具有各種易更換的樣品臺，drop-in 落入式設計具高度可調（除旋轉行星臺）。

·標準配置為旋轉臺, 直徑為50mm

·可預設傾斜角度的旋轉臺（可選）

·可變角度旋轉行星臺（可選）

·可用于4〞晶圓的平面旋轉臺（可選）

·顯微鏡載玻片樣品臺（可選）

其它選項

·用于高樣品的加高腔室

·膜厚監測器（FTM）

·用于測量低和高真空的全范圍真空計（皮拉尼真空計）

Q150T全自動鍍膜系統技術指示：

工作腔室：150mm（內徑）*127mm（高）硼硅酸鹽玻璃腔室，并帶整體護罩

觸摸屏用戶界面：帶有觸摸按鈕的全圖像界面，包含多達十個鍍膜程序，可提醒何時需要維護。

樣品臺：轉速為8-20rpm的旋轉臺

真空系統：

渦輪子分子泵：帶有內部空氣卻的渦輪分子泵，抽速為70L/s

旋轉機械泵：抽速為50L/m的兩級旋轉機械泵，帶有油污過濾器

真空測量：皮拉尼真空計作為標配，可選全量程真空計（10428）

限真空度：10^-5mbar兩級

濺射工作真空范圍：5*10^-3到5*10^-1mbar

工藝參數：

濺射：0-150mA。可預設膜厚（需FTM選項）或使用內置定時器。

碳蒸發：穩定的無紋波直流電源控制的脈沖蒸發，源自碳棒或碳絲的可重復蒸碳。

電流脈沖：1-90安培

金屬蒸發和光闌清潔頭：用于源自鎢絲籃或舟的金屬熱蒸發。可配備一個標準鉬舟用于清潔SEM或TEM光闌。

金屬蒸發頭被安裝用于向下蒸發，但向上蒸發也能通過配裝兩個延長電（可提供）而獲得。

Servic and other information：

氣體：濺射工作氣體氬氣，99.999%（TS和T版本）；氮氣，放氣破真空氣體（可選）

電源需求：90-250V~50/60Hz 1400VA 包括旋轉機械泵；110/240V可選擇電壓

尺寸：儀器機箱585mm寬*470mm*410mm高(總高650mm)

儀器總重量：33.4KG

濺射靶材和碳耗材供應：Q150S和Q150T標配鉻靶，但可選用的其它靶材范圍很寬，包括那些廣泛用于SEM制樣的靶材，如：Au金靶，Au/pd金鈀，Pt鉑靶，和Iridium銥靶。對非SEM應用，可選用的靶材包括：AI鋁，Ta鉭，ITO氧化銦錫，Fe鐵，W鎢，Ti鈦，等等：碳制品包括高純度碳棒和碳絲纖維。