HKCVD-1700系統由高溫管式爐，高真空擴散泵/分子泵系統，多通道高數字質量流量控制系統，自動壓強控制系統等組成。可實現本底真空達0.001—0.0001Pa混合氣體化學氣相沉積和擴散試驗。
主要功能和特點：
1、真空系統可根據使用要求選擇我部擴散泵機組或分子泵機組；
2、在高溫試驗過程中，可配合壓強控制儀控制氣體壓力實現負壓的精準控制；
3、數字質量流量控制系統是由多路質量流量計，流量顯示儀等組成，實現氣體的流量的精密測量和控制；每條氣體管路均配備高壓逆止閥，系統的。
4、采用水冷KF快速法蘭密封，裝卸方便快捷；管路采用世界Swagelok卡套連接，不漏氣；
5、溫、過壓時，自動切斷加熱電源及流量計進氣，設備及實驗的性。
主要用途和適用范圍：
高校、科研院所、工礦企業做高溫氣氛燒結、氣氛還原、CVD/CVI實驗，適用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備、納米線生長等場所。
技術參數：
| HKCVD-1700 | 本產品通過歐盟CE | ||
| 控溫方式 | 采用人工智能調節技術，具有PID調節、自整定功能，并可編制50段升降溫程序。 | ||
| 加熱元件 | 1700型優質硅鉬棒 | ||
| 工作電源 | AC220V 50HZ/60HZ | ||
| 額定功率 | ≤6KW | ||
| 爐管尺寸 | Φ60/80/100*/ | ||
| 工作溫度 | ≤ | ||
| 溫度 | | ||
| 恒溫 | ± | ||
| 升溫速度 | ≤ | ||
| 測溫元件 | B型熱電偶 | ||
| 密封方式 | 不銹鋼水冷KF法蘭擠壓密封 | ||
| | | ZK-F | ZK-K |
| 真空范圍 | 0.1-0.001Pa | 0.1-0.01Pa | |
| 限真空 | 5.0*10^-5Pa | 5.0*10^-4Pa | |
| 產品配置 | 雙級旋片真空泵+分子泵 | 雙級旋片真空泵+擴散泵 | |
| 冷卻方式 | 風冷 | 水冷 | |
| 抽 速 | | | |
| 測量方式 | 復合真空計 | ||
| 真空規管 | 電阻規+電離規 | ||
| HKCVD-1700-I | 測量范圍 | 1*10^5～1*10^-1 Pa | |
| 穩壓(真空)范圍 | 1*10^3～1*10Pa | ||
| 壓力(穩定） | ±3% | ||
| 控制范圍 | 2.5*10^3～5*10^-1 Pa | ||
| 控制 | ± 1% | ||
| HKCVD-1700-Ⅲ | 控制方式 | D07-7K質量流量計,D08流量顯示儀 | |
| 流量規格（可訂制） | 0－500SCCM /0－1SLM, | ||
| 線 性 | ±1%F.S. | ||
| 準確度 | ±1%F.S. | ||
| 重復 | ±0.2%F.S. | ||
| 響應時間 | ≤2sec | ||
| 耐 壓 | 3MPa | ||
| 氣路通道 | 3通道（根據客戶需求） | ||
| 針 閥 | 316不銹鋼 | ||
| 管 道 | Φ | ||
| 接 口 | SwagelokΦ | ||
