主要技術(shù)指標(biāo)
1.激發(fā)光源：予燃低壓火花光源
電源電壓：50Hz、220V±1％
輸入功率：1.2KVA
電容量：1μF，2μF，3μF，7μF可選
電感量：50μH
輸出脈沖：峰值電壓960V
峰值電流：預(yù)燃300V，曝光100A
持續(xù)時(shí)間：預(yù)燃300μs，曝光100μs
引燃：脈沖幅度：30KV
放電頻率：200Hz
2.分光儀：
分析波段范圍：175～450nm（WLD-3C）
220～550nm（WLD-1C）
凹面光柵：
曲率半徑：750mm
刻劃密度：2400線(xiàn)／mm
刻劃面積：30×50mm²
閃耀波長(zhǎng)（）：300nm
線(xiàn)色散：0.55nm／mm
入射狹縫寬度：20μm
出射狹縫寬度：50μm、75μm
允許多通道：36個(gè)
分光儀局部恒溫：30℃±0.5℃
3.測(cè)控儀系統(tǒng)
測(cè)量方式：分段積分
重現(xiàn)性：RSD≤0.2％
光電管高壓電源：
電壓：-1000V
穩(wěn)定度：8小時(shí)0.5％
1.激發(fā)光源：予燃低壓火花光源
電源電壓：50Hz、220V±1％
輸入功率：1.2KVA
電容量：1μF，2μF，3μF，7μF可選
電感量：50μH
輸出脈沖：峰值電壓960V
峰值電流：預(yù)燃300V，曝光100A
持續(xù)時(shí)間：預(yù)燃300μs，曝光100μs
引燃：脈沖幅度：30KV
放電頻率：200Hz
2.分光儀：
分析波段范圍：175～450nm（WLD-3C）
220～550nm（WLD-1C）
凹面光柵：
曲率半徑：750mm
刻劃密度：2400線(xiàn)／mm
刻劃面積：30×50mm²
閃耀波長(zhǎng)（）：300nm
線(xiàn)色散：0.55nm／mm
入射狹縫寬度：20μm
出射狹縫寬度：50μm、75μm
允許多通道：36個(gè)
分光儀局部恒溫：30℃±0.5℃
3.測(cè)控儀系統(tǒng)
測(cè)量方式：分段積分
重現(xiàn)性：RSD≤0.2％
光電管高壓電源：
電壓：-1000V
穩(wěn)定度：8小時(shí)0.5％
