實驗內容及相關科目:
可觀察細絲、單縫、雙縫、多縫、
小孔的衍射現象,測量其光強分布。
驗證波長、縫寬與光強分布的關系
光柵公式、海森堡測不準原理。
儀器特點:
以半導體激光器作為光源,光功率指示計和精密位移機構測量光強發布,較讀數顯微鏡更加客觀、準確。
光探頭:含12檔光欄盤,通光孔徑分別為圓孔和狹縫。
圓孔直徑為0.5 1.0 2.0 3.0 4.0 6.0 mm;縫寬0.2 0.3 0.4 0.8 1.2mm.
縫元件:含細絲、單縫、雙縫、多縫、光柵等多種結構。
大一維位移架:橫向移動度為0.02mm,移動范圍≥100mm.
設備成套性:
光學實驗導軌(1200mm)、半導體激光器、小一維+縫元件、激光功率指示計、一維位移架+十二檔光探頭等。
技術指標
光學實驗導軌1200mm.
半導體激光器650nm,4Mw,。
激光功率指示計:三位半數字表頭,量程:200μW,2mW,20mW,200mW,可調檔。小分辨率0.1u W.
一維可調導軌滑塊:可調范圍:10mm.
大一維位移架+12檔光探頭:位移范圍100mm,0.02mm,光欄直徑:0.5、1、2、3、4、6mm.光欄寬度:0.2、0.3、0.4、0.8、1.2mm.








