對半導體制造裝置發熱部的冷卻：單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。
高恒溫油槽產品特點：
節約能源--在夏季和高環境溫度下，冷卻水可在系統回路中循環使用，節約大量的水資源。
效率更高--一臺循環水設備可同時滿足多臺外部設備的冷卻需求，持續提供低溫恒溫水源，適用于冷凝實驗。
控溫--PID控溫技術，內置PT100傳感器，控溫高，溫度數字顯示，操作直觀
性高――具有自我診斷功能；冷凍機過載保護等多種保障功能。
低溫不凍液配比
A乙二醇水溶液：乙二醇／水 55／45（-30℃），70／30（-40℃）
B丙三醇水溶液：丙三醇／水 70／30（-30℃）使用中需經常檢查低溫不凍液的密度使其滿足如下要求：1.乙二醇水溶液：P20＝1079㎏／m3（-30℃）（-40℃）2.丙三醇水溶液：P20＝1182.6㎏／m3（-30℃）不凍液用水代替時，其溫度須在0℃以上。
高恒溫油槽產品特點：
節約能源--在夏季和高環境溫度下，冷卻水可在系統回路中循環使用，節約大量的水資源。
效率更高--一臺循環水設備可同時滿足多臺外部設備的冷卻需求，持續提供低溫恒溫水源，適用于冷凝實驗。
控溫--PID控溫技術，內置PT100傳感器，控溫高，溫度數字顯示，操作直觀
性高――具有自我診斷功能；冷凍機過載保護等多種保障功能。
低溫不凍液配比
A乙二醇水溶液：乙二醇／水 55／45（-30℃），70／30（-40℃）
B丙三醇水溶液：丙三醇／水 70／30（-30℃）使用中需經常檢查低溫不凍液的密度使其滿足如下要求：1.乙二醇水溶液：P20＝1079㎏／m3（-30℃）（-40℃）2.丙三醇水溶液：P20＝1182.6㎏／m3（-30℃）不凍液用水代替時，其溫度須在0℃以上。
其他說明
| 類別 | 單箱 | 雙箱 | 三箱 | ||||||
| 型號 | HK-GJ-10H | HK-GJ-10F | HK-GJ-10L | HK-GJ-20H | HK-GJ-20F | HK-GJ-20L | HK-GJ-30H | HK-GJ-30F | HK-GJ-30L |
| 溫度范圍(℃) | 0~150 | -20~150 | -40~150 | 0~150 | -20~150 | -40~150 | 0~150 | -20~150 | -40~150 |
| 溫度 | 0~30℃/0.005℃ 0.01℃ | ||||||||
| 勻均度 | &plun;0.005℃ | ||||||||
| 分辨率 | 0.001℃_0.01℃ | ||||||||
| 內箱尺寸(W*H*D)mm | 500*350*420 | 580*300*350 | 580*300*350 | ||||||
| 冷卻方式 | 壓縮機制冷 | 內部循環水 | 壓縮機制冷 | 壓縮機制冷 | |||||
| 控制器 | 日本島電SR23 0.1級高斜率控制器 | ||||||||
| 試驗介質 | 0度以下可用工業酒精 25度以上可用環烷烴,烷烴和芳香烴(變壓器油) | ||||||||
| 攪拌方式 | 循環馬達攪拌 | ||||||||
| 電源 | AC220V 50Hz | ||||||||
