二、設備設計依據:
2.1、按照/T6065,GB/T3721--83及/T8290--1998標準執行;
2.2、按照ISO9001質量體系對磁粉探傷機的設計程序文件執行;
2.3、根據需方工件的磁粉探傷工藝需求執行。
三、探傷工件類型及尺寸:
3.1、類型:通用鐵磁性材料葉片類工件;
3.2、工件長度:1500mm;
3.3、截面尺寸:20mm~150mm.
四、設備總體要求:
CEW-4000微機控制熒光磁粉探傷機系機電一體式結構、微機控制熒光磁粉探傷設備。主要由磁化電源、電氣控制系統、夾持磁化系統、旋轉觀察系統、磁懸液噴灑及回收系統、熒光探傷系統、退磁裝置等幾部分組成。適用于以濕式磁粉法檢測由鐵磁性材料制成的工件表面及近表面因材料、鍛造、加工、疲勞等各種原因引起的裂紋和各種細微缺陷。
該設備由可編程控制器(PLC)對設備進行集中控制。工件經人工上料后,通過腳踏夾緊機構實現工件夾緊,進而進行噴淋、復合磁化、轉動觀察、腳踏松開等一系列動作;在床身中部配置簡易操作控制盒,方便操作。交流磁化均帶斷電相位控制,具有較高的剩磁穩定度,既適用于連續法探傷檢測,又適用于剩磁法探傷檢測。
該設備具有自動化程度高、檢查速度快、操作人員勞動強度低、工作、可擴展等特點。
五、設備主要技術參數:
5.1、磁化方式:周向、縱向、復合三種磁化方式;
5.2、周向磁化電流:AC:0-4000A值,數顯連續可調,帶斷電相位控制;
5.3、縱向磁化磁勢:DC:0-22000AT平均值,數顯連續可調,帶斷電相位控制;
5.4、暫載率:≥30%;(設備能夠3班連續工作)
5.5、工作節拍:探傷時間和工藝過程可根據需方實際需要,程序可調整;
5.6、電間距:1600mm,連續可調;
5.7、夾緊方式:腳踏機構夾緊;
5.8、工作方式:手動和自動(自動工作程序可按用戶要求進行編程);
5.9、退磁方式:自動衰減式退磁;
5.10、周向退磁電流:AC 4000-0A值,連續可調;
5.11、縱向退磁磁勢:AC 22000-0AT值,連續可調;
5.12、退磁效果:≤0.3mT
5.13、探傷靈敏度:A2#試片(包括圓圈及十字架)均能清晰顯示;
5.14、紫外線照度:配備一套固定式光燈,型號為UV-400,距工件表面380mm處紫外線照度≥6000uw/cm2;
5.16、電源:三相四線 380V&plun;10%50Hz 瞬時電流120A;
5.17、整機外形尺寸:約1800mm(L)×800mm(W)×2020mm(H);
5.18、窗口面積500mm(寬)×300mm(高)×500mm(深);
5.18、重量:約1200KG.
六、設備主要組成:
6.1、電氣控制系統二套
6.2、夾持磁化系統一套
6.3、磁懸液噴灑及回收系統一套
6.4、熒光探傷系統一套
6.5、退磁裝置








