XULM 型X 射線光譜儀有著出色長期穩定性，這樣就不需要經常校準儀器了。
本款儀器適合在質保、來料檢驗和過程控制等領域中使用，
典型的應用領域有：
? 十分微小部件、接插件和線材上鍍層厚度的測量
? 印制線路板上手動測量
? 珠寶手表業中的鍍層厚度測量及成分分析
設計理念
CHERSCOPE X-RAY XULM 設計為界面友好、結構緊湊的臺式測量儀器系列。根
據使用用途，有以下兩種不同版本型號，分別對應不同樣品平臺：
XULM： 固定平面平臺
XULM XYm： 手動X/Y 平臺
高分辨的彩色視頻鏡頭配以強大的放大功能，可以定位測量位置。
盡管儀器本身結構緊湊，但是由于XULM 光譜儀配備了寬敞的測量室，從而可以測量
更大體積的樣品。
外罩底部留下了空隙，可方便地測量出測量室大小的大尺寸扁平樣品，如大面積的
印制線路板等。
通過強大且界面友好的WinFTM®軟件，可以在電腦上便捷地完成整個測量過程，包括
測量結果的數據分析和相關信息的顯示等。
XULM 型光譜儀是型式許可合德國”Deutsche R?ntgenverordnung-R?V“法令要求
的，有完善護措施的測量儀器。
XULM®
3
通用規范
用途 能量色散X 射線熒光光譜儀 (EDXRF) 用于測量鍍層厚度和材料分析
可測量元素范圍 從氯（17）到鈾（92），如使用選配的WinFTM® BASIC，可多同時測量24 種元素
設計理念 桌上儀器，向上開啟艙門
測量方向 由下往上
X 射線源
X 射線靶材 帶鈹窗口的微聚焦鎢管
高壓 三種可調高壓：30 kV，40 kV，50 kV
孔徑（準直器） 4 個可切換準直器：
標準型(523-440)：圓形? 0.1mm；? 0.2mm；矩形0.05 x 0.05mm；0.2 x 0.03mm
可選 (523-366)：圓形? 0.1mm；? 0.2mm；? 0.3 mm；矩形0.3 x 0.05 mm
可選 (524-061)：圓形? 0.1mm；? 0.2mm；矩形0.3 x 0.05 mm；0.05 x 0.05mm
可按要求定制其它規格
基本濾波片 3 種可切換的基本濾片（標準型：鎳，無，鋁）
測量點大小 取決于測量距離和使用的孔徑大小，視頻窗口中顯示的就是實際的測量點尺寸，使用
矩形0.05 x 0.05mm 準直器，小的測量點面積約為? 0.1 mm。
測量距離，如樣品為腔體時 0 ~ 20 mm，校準范圍，使用保護的DCM 功能
20 ~ 27.5 mm，非校準范圍，使用保護的DCM 功能
X 射線探測器
X 射線接收器 比例計數器
二次濾波器 可選：鈷濾波器或鎳濾波器
樣品定位
視頻顯微鏡 高分辨 CCD 彩色攝像頭，可用來觀察測量位置
十字線刻度和測量點大小經過校準
測量區域的LED 照明亮度可調節
放大倍數 38 x ~184x (光學變焦: 34x ~ 46x; 數字變焦: 1x, 2x, 3x, 4x)
樣品平臺 XULM XULM XYm
設計 固定樣品平臺 手動XY 平臺
X/Y 方向可移動范圍 - 50 x 50 mm
樣品放置可用區域 250 x 280mm
樣品重量 2kg
樣品高度 240mm
CHERSCOPE® X-RAY XULM®
鍍層厚度 材料分析 顯微硬度 材料測試
電氣參數
線電壓，頻率 AC 115 V 或 AC 230 V 50 / 60 Hz
能耗 為 120 W (測量頭重量，不包括計算機)
保護等級 IP40
尺寸大小
外部尺寸 寬x 深x 高[mm]：395 x 580 x 510
重量 約45 kg
內部測量艙尺寸 寬x 深x 高[mm]：360 x 380 x 240
環境條件要求
測量時溫度 10°C – 40°C / 50°F – 104°F
存儲或運輸時溫度 0°C – 50°C / 32°F – 122°F
空氣相對濕度 ≤ 95 %，無結露
計算單元
計算機 帶擴展卡的Windows®個人計算機系統
軟件 標準配置：cher WinFTM® LIGHT
可選配置：cher WinFTM® BASIC, PDM®, SUPER
執行標準
CE 合格標準 EN 61010
X 射線標準 DIN ISO 3497 和 ASTM B 568
批準 型式許可合德國”Deutsche R?ntgenverordnung-R?V“法令要求的，有完善護措
施的測量儀器。
本款儀器適合在質保、來料檢驗和過程控制等領域中使用，
典型的應用領域有：
? 十分微小部件、接插件和線材上鍍層厚度的測量
? 印制線路板上手動測量
? 珠寶手表業中的鍍層厚度測量及成分分析
設計理念
CHERSCOPE X-RAY XULM 設計為界面友好、結構緊湊的臺式測量儀器系列。根
據使用用途，有以下兩種不同版本型號，分別對應不同樣品平臺：
XULM： 固定平面平臺
XULM XYm： 手動X/Y 平臺
高分辨的彩色視頻鏡頭配以強大的放大功能，可以定位測量位置。
盡管儀器本身結構緊湊，但是由于XULM 光譜儀配備了寬敞的測量室，從而可以測量
更大體積的樣品。
外罩底部留下了空隙，可方便地測量出測量室大小的大尺寸扁平樣品，如大面積的
印制線路板等。
通過強大且界面友好的WinFTM®軟件，可以在電腦上便捷地完成整個測量過程，包括
測量結果的數據分析和相關信息的顯示等。
XULM 型光譜儀是型式許可合德國”Deutsche R?ntgenverordnung-R?V“法令要求
的，有完善護措施的測量儀器。
XULM®
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通用規范
用途 能量色散X 射線熒光光譜儀 (EDXRF) 用于測量鍍層厚度和材料分析
可測量元素范圍 從氯（17）到鈾（92），如使用選配的WinFTM® BASIC，可多同時測量24 種元素
設計理念 桌上儀器，向上開啟艙門
測量方向 由下往上
X 射線源
X 射線靶材 帶鈹窗口的微聚焦鎢管
高壓 三種可調高壓：30 kV，40 kV，50 kV
孔徑（準直器） 4 個可切換準直器：
標準型(523-440)：圓形? 0.1mm；? 0.2mm；矩形0.05 x 0.05mm；0.2 x 0.03mm
可選 (523-366)：圓形? 0.1mm；? 0.2mm；? 0.3 mm；矩形0.3 x 0.05 mm
可選 (524-061)：圓形? 0.1mm；? 0.2mm；矩形0.3 x 0.05 mm；0.05 x 0.05mm
可按要求定制其它規格
基本濾波片 3 種可切換的基本濾片（標準型：鎳，無，鋁）
測量點大小 取決于測量距離和使用的孔徑大小，視頻窗口中顯示的就是實際的測量點尺寸，使用
矩形0.05 x 0.05mm 準直器，小的測量點面積約為? 0.1 mm。
測量距離，如樣品為腔體時 0 ~ 20 mm，校準范圍，使用保護的DCM 功能
20 ~ 27.5 mm，非校準范圍，使用保護的DCM 功能
X 射線探測器
X 射線接收器 比例計數器
二次濾波器 可選：鈷濾波器或鎳濾波器
樣品定位
視頻顯微鏡 高分辨 CCD 彩色攝像頭，可用來觀察測量位置
十字線刻度和測量點大小經過校準
測量區域的LED 照明亮度可調節
放大倍數 38 x ~184x (光學變焦: 34x ~ 46x; 數字變焦: 1x, 2x, 3x, 4x)
樣品平臺 XULM XULM XYm
設計 固定樣品平臺 手動XY 平臺
X/Y 方向可移動范圍 - 50 x 50 mm
樣品放置可用區域 250 x 280mm
樣品重量 2kg
樣品高度 240mm
CHERSCOPE® X-RAY XULM®
鍍層厚度 材料分析 顯微硬度 材料測試
電氣參數
線電壓，頻率 AC 115 V 或 AC 230 V 50 / 60 Hz
能耗 為 120 W (測量頭重量，不包括計算機)
保護等級 IP40
尺寸大小
外部尺寸 寬x 深x 高[mm]：395 x 580 x 510
重量 約45 kg
內部測量艙尺寸 寬x 深x 高[mm]：360 x 380 x 240
環境條件要求
測量時溫度 10°C – 40°C / 50°F – 104°F
存儲或運輸時溫度 0°C – 50°C / 32°F – 122°F
空氣相對濕度 ≤ 95 %，無結露
計算單元
計算機 帶擴展卡的Windows®個人計算機系統
軟件 標準配置：cher WinFTM® LIGHT
可選配置：cher WinFTM® BASIC, PDM®, SUPER
執行標準
CE 合格標準 EN 61010
X 射線標準 DIN ISO 3497 和 ASTM B 568
批準 型式許可合德國”Deutsche R?ntgenverordnung-R?V“法令要求的，有完善護措
施的測量儀器。
