儀器簡介：

無論您是想以快的速度分析成百上千個基體復雜的樣品，還是想要獲得高純試劑中超痕量雜質的可信結果，安捷倫7700 系列ICP-MS 都能助您滿足當前以及未來的分析需求。
安捷倫7700 系列ICP-MS – ICP-MS 儀器的新面孔–是世界上小的商品化ICP-MS。作為的安捷倫7500 系列ICP-MS的繼承者，7700性能在各方面更勝一籌：分析速度更快、操作更簡便、靈敏度更高、背景噪音更低、消干擾效果更佳、應用面更廣、維護更方便。7700x具有適應多種樣品類型、應用范圍廣泛、性能穩(wěn)定耐用的特點，是大多數(shù)常規(guī)實驗室和分析大批量樣品的商業(yè)實驗室的優(yōu)選擇。7700s 則是專為半導體行業(yè)應用而設計，具有半導體針對性的強大功能。這兩種型號都具有無可比擬的性能和易于使用的優(yōu)點，即使您面對的是棘手的樣品基體，它們都能為您獲取值得信賴的分析結果。
7700系列ICP-MS不但配置了新的軟件平臺，而且在儀器硬件方面也進行了革新設計，包括全新數(shù)字控制式射頻匹配的RF發(fā)生器和第三代八極桿碰撞/反應池系統(tǒng)(ORS3)。安捷倫7700x ICP-MS 憑借第三代碰撞/ 反應池(ORS3) 為復雜高基體樣品的分析提供了無可比擬的準確性，它革命性地重新定義了碰撞/反應池：僅使用氦氣碰撞即可消除所有可能的質譜干擾！

技術參數(shù)：

1. 靈敏度：
低質量數(shù) Li(7):  50 Mcps/ppm；
中質量數(shù) Y(89):  160 Mcps/ppm（7700x)； 240 Mcps/ppm(7700s) ；
(高質量數(shù) Tl(205):  80 Mcps/ppm(7700x)； 120 Mcps/ppm(7700s)；
根據(jù)用戶特殊需求，如激光、核工業(yè)、半導體材料等應用，可提供超高靈敏度功能

2. 檢測限：
低質量數(shù) Be(9):  0.5 ppt；
中質量數(shù) In(115):  0.1 ppt
高質量數(shù) Bi(209):  0.1 ppt
3. 氧化物干擾: CeO+/Ce+: 1.5 %(7700x)； 3.0 %(7700s)；
4. 雙電荷干擾: Ce2+/Ce+: 3.0 %
5. 同位素比: RSD(107Ag/109Ag) 0.1%
6. 質譜范圍：2 - 260 amu；
7 豐度靈敏度
低質量端:  5 x 10-7
高質量端:  1 x 10-7

主要特點：

尺寸小的ICP-MS
靈敏度的碰撞池-第三代ORS3
的純 He 氣碰撞池：只用He氣就可以消除所有干擾。
耐高鹽的ICP-MS: HMI技術（TDS>3%）
先進的ICP離子源技術：的數(shù)字控制式諧頻ICP發(fā)生器
有機溶劑進樣不熄火！
分析速度快：ISIS-DS技術
容易維護和清洗
強的色譜聯(lián)機功能：真正的一體化
功能多強的軟件：MassHunter系統(tǒng)，實現(xiàn)實時QA/QC
偏移標示，自動化控制等