技術要點
DVS Vacuum 支持靜態及動態實驗的重量法系統
DVS Vacuum 提供雙重吸附解決方案，可進行包括Henry區段的更高吸附壓力的靜態吸附實驗和更低吸附壓力的動態實驗。
動態真空的原則
在串聯方式達到動態真空條件下，控制吸附物的進入和退出：
1.通過下游的真空泵對樣品倉進行抽真空。
2.根據用戶設定的流動速率將吸附分子引進倉內－樣品倉填滿直到達到需要的吸附濃度。
3.下游蝶閥打開來平衡吸附物進出的流動速率。吸附物濃度恒量時，系統穩定運行。
主要特性
多組分/競爭吸附實驗
使用兩種氣體，兩種蒸汽，或者一種氣體與一種蒸汽進行多組分實驗
高溫樣品預熱器（可選）
在高真空下樣品預熱可高達400℃
高真空
實驗背景壓力低至7x10-6mbar
Henry（享利）區域（低吸附濃度）試驗。
可傳送吸附質的壓力低至0.1mbar時的吸附結果（更低壓力可通過咨詢SMS得知）
使用氣體和蒸汽
典型的氣體和蒸汽包括：
·二氧化碳 · 二氧化硫 · 氫 · 氬 · 甲苯 · 氮 · 甲烷 · 水 · 環己烷 · 辛 · 乙醇
軟件
SMS的系統軟件在穩定性、 靈活性、 直觀性方面仍然是世界的者。通過廣泛客戶的參與和采納反饋意見并進行自行設計，SMS讓吸附解決方案操作變得更簡單。
DVS 真空控制軟件――PIRANI CONTROL
Pirani Control 讓復雜的實驗變的簡單化。其直觀的、 基于 windows 的、 人性化的界面允許您完全通過計算機控制運行一系列不同的 DVS 真空試驗。
DVS 真空數據分析軟件――PIRANI ANALYSIS
Pirani 分析利用DVS 真空實驗的靈活性，提供廣泛的、 人性化的數據分析，邊上另有“報表一擊生成”功能。
DVS 分析套件――ADVANCED and ISOTHERM
使用DVS 先進的、等溫分析套件來闡明關鍵的理化參數。
示意圖和說明
DVS Vacuum 支持靜態及動態實驗的重量法系統
DVS Vacuum 提供雙重吸附解決方案，可進行包括Henry區段的更高吸附壓力的靜態吸附實驗和更低吸附壓力的動態實驗。
動態真空的原則
在串聯方式達到動態真空條件下，控制吸附物的進入和退出：
1.通過下游的真空泵對樣品倉進行抽真空。
2.根據用戶設定的流動速率將吸附分子引進倉內－樣品倉填滿直到達到需要的吸附濃度。
3.下游蝶閥打開來平衡吸附物進出的流動速率。吸附物濃度恒量時，系統穩定運行。
| 使用真空吸附解決方案的優點 在Henry 區域動態填模式下進行低吸附壓力實驗，提供了兩個關鍵優勢： 確定吸附物的成份 靜態系統在進行低吸附壓力時會使少量空氣滲漏進入樣品倉，隨著時間推移會稀釋吸附物分子。樣品倉的總壓力開始成為溶劑與滲漏空氣的總合。因此實際的吸附物濃度要遠比系統傳感器顯示的結果低，導致實驗結果不準確。 使用DVS Vacuum 動態模式可以確保不斷消除滲漏的空氣，并由吸附物取而代之。因此樣品倉內總的測量壓力都由吸附分子組成，在Henry區域提供的實驗濃度也就是準確的。 滯留時間的控制 DVS Vacuum 在寬廣的流動速率的范圍內，達到穩定的狀態。可控制樣品被吸附停留的時間，提供足夠的吸附物/基質接觸以使得測量數據準確如孔大小分布和吸附動力學。 | 在靜態條件下（A）和動態條件下（B）的吸附分子和 基質。不同的條件下測量出的吸附壓力將是相同的。 |
主要特性
多組分/競爭吸附實驗
使用兩種氣體，兩種蒸汽，或者一種氣體與一種蒸汽進行多組分實驗
高溫樣品預熱器（可選）
在高真空下樣品預熱可高達400℃
高真空
實驗背景壓力低至7x10-6mbar
Henry（享利）區域（低吸附濃度）試驗。
可傳送吸附質的壓力低至0.1mbar時的吸附結果（更低壓力可通過咨詢SMS得知）
使用氣體和蒸汽
典型的氣體和蒸汽包括：
·二氧化碳 · 二氧化硫 · 氫 · 氬 · 甲苯 · 氮 · 甲烷 · 水 · 環己烷 · 辛 · 乙醇
軟件
SMS的系統軟件在穩定性、 靈活性、 直觀性方面仍然是世界的者。通過廣泛客戶的參與和采納反饋意見并進行自行設計，SMS讓吸附解決方案操作變得更簡單。
DVS 真空控制軟件――PIRANI CONTROL
Pirani Control 讓復雜的實驗變的簡單化。其直觀的、 基于 windows 的、 人性化的界面允許您完全通過計算機控制運行一系列不同的 DVS 真空試驗。
DVS 真空數據分析軟件――PIRANI ANALYSIS
Pirani 分析利用DVS 真空實驗的靈活性，提供廣泛的、 人性化的數據分析，邊上另有“報表一擊生成”功能。
DVS 分析套件――ADVANCED and ISOTHERM
使用DVS 先進的、等溫分析套件來闡明關鍵的理化參數。
示意圖和說明
| 1.溫度控制器 ■ 實驗溫度設置范圍可以是20℃－85℃ 1a.高溫樣品預熱器（可選）可以在高真空條件下將樣品預熱達400℃ 2.真空系統 ■ 2a.回轉泵 可將真空降至 1.3x10-3mbar 2b.分子泵（可選） 進一步將真空低至7x10-6mbar（與回轉泵組合） 2c.蝶閥 調整氣體/蒸汽吸附物從系統中減少的比率 通過樣品倉提供一個下游壓力控制點 2d & 2e.氣體/蒸汽壓力傳感器 測量與反饋氣體/蒸汽吸附壓力， 范圍：1013mbar － 0.1mbar 3.真空 manifold ■ 主要構件都采用316不銹鋼 | 4.氣體/蒸汽注射系統 ■ DVS真空系統可以利用一種氣體或蒸汽， 兩種氣體或蒸汽，一種氣體和一種蒸汽的混合， 提供多種濃度的水、有機蒸汽和氣體的濃聚物。 4a - 4f.上游吸附壓力控制 熱導質量流量控制器（MFCs – 4a and 4b）掌控著吸附的進入。 下游吸附壓力控制 吸附減少率由下游蝶閥控制（2c）。 5.系統微量天平 ■ 吸附物在吸附臨界解吸附的記錄值作為樣品質量 樣品質量：高過 1.0g 分辨率：0.1 μg 質量變化：高達±150mg 6.電腦控制和軟件 ■ 控制實驗參數和連續記錄并保存數據以便日后數據分析 |