儀器簡介：
催化劑在現代工業生產過程中無處不在的應用：石化，醫藥，精細化學，食品工業等。有數種廣為人知的分析技術用來評估諸如金屬比表面積，金屬分散度，平均金 屬團聚體大小。其中快而且可靠的技術就是在流體中的脈沖化學吸附的方法。在催化劑相關的其他研究中，與化學吸附和去吸附過程相關的反應物和產物也可以測 量相關能量。通過使用TPDRO1100 以控溫的方式進行去吸附（TPD），還原（TPR），氧化（TPO）和脈沖化學吸附法的過程獲得以上參數。
 
應用范圍：
石化
醫藥
精細化學
食品工業
 
儀器特點：
配有2個并行預處理反應室，大大加快實驗進程
Thermo Electron創新的反應室，避免了在于處理之后樣品暴露在空氣之中。反應室可以在催化劑活化并保存在惰性氣體環境下與外部環境隔絕，以備后續操作。用戶可以轉移整個反應室而無需擔心任何樣品污染先前的預處理結果。
催化劑的預處理可以在TPDRO1100預處理端或者其他系統內進行（如通風柜，內部控制環境等）。
TPDRO1100可以同時或者獨立的進行活化樣品。并且同時在分析室內對另一個樣品進行分析，節省了實驗室操作時間，加倍了實驗室產出。
TPDRO可以連續工作，這就意味著當從預處理狀態到分析階段時無需接觸反應物，無需操作人員介入，儀器會自動按照預設的過程進行樣品催化劑活化的預處理。
TPDRO 1100不僅可以在升溫過程中進行樣品分析，在降溫過程中也可以同樣進行樣品分析。
 
TPDRO1100的關鍵特性

針對高靈敏探測的氣體控制	在TPDRO中，氣流是由氣流質量控制器在單組分氣體管中首先經過TCD參考信道然后通過反應物后再次通過TCD分析信道。這樣的設置確保了氣流對于 TCD是同一的，這樣終也保證了基線和檢測限穩定性。從而確保結果可靠。金屬含量低的催化劑也能被輕松檢測，小化反應中的樣品裝載量，避免了重復吸附 和溝道效應。
針對脈沖吸附化學的氣體注入	對于校正和脈沖吸附化學，探測氣體可以通過手動的注射器或者自動注入通過高的環路系統。環路的選擇小至0.15CC而且沒有“快門”造成的死體積在基 線上產生噪音峰。脈沖氣體也可以由低百分含量的反應氣體混入惰性氣體中，這樣就可以用非常小的氣體注入到非常低的金屬百分含量的催化劑中。
兩個獨立預處理爐提高效率	TPDRO有著兩個完全獨立的預處理爐。每一個都可以單獨用來樣品活化或者實驗升溫至1100℃。兩個預處理爐是防磁的，可以避免防止當載體是有極性時對基線的干擾。同時也可與壓縮空氣設備連接的用來加速冷卻處理爐。
在催化劑研究時可以在升溫或者降溫階段進行溫度控制	爐溫可以線性的大范圍提升。尤其在TPD實驗時，升溫速率可達40℃每分鐘至750℃ 或者每分鐘20℃升溫至1100℃，從而加強了儀器性能。另外，特殊設計的系統使得儀器可以在降溫過程中進行溫度控制。這使得對樣品降溫過程中進行的反應進行測量變得可行。
實時連續的樣品監測	熱電偶直接嵌入反應室內，可以在樣品上或者催化劑床內。該探針非常細，對溫度波動有著非常短的反應時間。而且，探頭自身由石英保護，避免了熱電偶和反應氣體的接觸。
附加分析的可能性	在氣流分析時進行單點的BET計算使得可以在反應結束之前進行催化劑總表面積的評估。而且，如果在樣品分析時形態發生改變的話，也可以迅速顯示出來。
外部溫度調節	當進行脈沖吸附化學實驗時，反應室可以從室溫或者零攝氏度通過特殊的水浴循環，溫度可以的通過外部液體循環系統進行調節。
氣體發生器選項包	許多種的有機氣體都可以通過氣體發生器在連續的溫度下，注入反應室。對催化劑進行飽和。然后再通過TPD過程進行解吸附。
針對其他綜合表面反應研究有其他可選的探頭。	TCD探頭后可以再連接質譜儀，該特點使得能對由催化劑產生的氣體種類能進行定性和定量的分析。

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