儀器簡介：



ZSX PrimusII是理學公司新奉獻的上照射式X射線熒光光譜儀，是材料分析與評價的好幫手。
ZSX PrimusII是波長色散掃描式熒光光譜儀，分析高。
可以對4Be到92U進行定性、定量分析。
元素的檢量范圍從0.0001% ~ 100%，如進行前處理，可以再下降2 ~ 3個數量級。
可以分析材料的狀態包括：粉末樣品、塊狀樣品、液體樣品。
可以分析材料的領域包括：電子和磁性材料、化學工業、陶瓷及水泥工業、鋼鐵工業、非鐵合金、地質礦產、石油和煤、環境保護。



技術參數



X射線發生器部分
X射線管：端窗式Rh靶 4kW或3kW
高壓發生器：高頻變頻方式
額定電壓,電流：4kW,60kV-150mA
穩定度：±0.005%(對電源±10%變化時)
冷卻水：水冷冷卻水(內置)

分光部部分
樣品交換器：可以選擇12,24,36,48樣品交換器
樣品尺寸：φ51mmx40mm(H)
分析樣品面：φ35mm
樣品旋轉：30rpm
1次X射線濾波片：4種(Al,Ti,Cu,Zr)
視野限制光闌：6種自動交換機構(φ35,30,20,10,1,0.5 mm)
發散狹縫：3種自動交換機構(標準分辨率、高分辨率、超輕元素用(選件)
接收狹縫：SC用,F-PC用
測角儀：θ-2θ獨立驅動
測角范圍：SC、5°-118°， F-PC、13°-148°
掃描速度：1400°/min(2θ)
連續掃描：0.1-240°/min
晶體交換機構：10分光晶體自動交換機構
分光晶體：(標準)LiF(200)、Ge、PET、RX25
(選件)LiF(220)、RX4、RX9、RX35、RX40、RX45、RX61、RX75、RX80、RX61F、TAP
真空排氣系統：雙真空室高速排氣系統(雙真空泵)
粉末樣品附件(選件)
氦氣置換機構(選件)：帶隔板
恒溫化機構：36.5度
記數.控制部分：
重元素用：SC閃爍計數管，記數線性1000kcps
輕元素用：F-PC流氣比例計數管，記數線性2000kcps
芯線加熱自動清洗機構
衰減器：IN-OUT自動切換(衰減率1/10)
計算機：windows PC
軟件：
定性分析：自動鑒定分析功能，包括平滑,扣背景
定量分析：檢量線法
JIS法
各種基體校正
無標樣分析法
EZ掃描,應用模板,
樣品徑自動選擇
譜峰分離
定測試
E-mail傳送功能,多功能標準樣品
其它選件
維護功能:
自動PHA調整(PAS)
全自動芯線清洗
自動老化
自動診斷
遠程診斷

主要特點：



1、 大幅度提高了超輕元素(B,C)的分析靈敏度、準確度
使用理學的強度的分光晶體RX-25，RX-61，RX-75，保證輕元素分析的靈敏度
采用APC自動真空控制機構，保證超輕元素分析的準確度(理學)
使用4KW 30um超薄窗、超尖銳、長壽命X光管，適合超輕元素分析
2、 采用新光學系統，實現對重元素的高靈敏度分析
3、 強大的粉末樣品測試功能
上照式，可以長時間防止粉末污染分光室
雙泵、雙真空設計(樣品室/預抽真空室)，防止粉末樣品的細微粉塵混入分光室
粉末附件，采用電磁閥真空密封，防止細微粉塵進入真空泵內
4、 加裝CCD視頻攝像機構，位置分辨率可達100um，可以進行0.5mm的微區分析，可以測量Mapping(理學)
5、 提高少量樣品的分析準確度
使用r-θ樣品臺(理學)，徹底解決了X射線照射不均以及分光晶體強度不均的問題，保證樣品在X射線強、條件下測量。
6、 樣品室與分光室之間有專用隔膜裝置
7、 48位自動進樣器
8、 PAS自動調整脈沖高度系統(理學)
ACC自動清洗F-PC芯線系統(理學)
可以保證儀器在狀態下使用
9、 節約能源(自動減少X射線管的輸出)；節約PR-10氣體；節約He氣(選用He室時)；節省空間
10、 自動監控、自動開關機、自動節能等多功能操作軟件
11、 先進的軟件分析，NEW SQX軟件
12、 全中文界面