EX2自動(dòng)橢圓偏振測(cè)厚儀是基于消光法（或稱(chēng)“零橢偏”）橢偏測(cè)量原理，針對(duì)納米薄膜厚度測(cè)量領(lǐng)域推出的一款自動(dòng)測(cè)量型教學(xué)儀器。EX2儀器適用于納米薄膜的厚度測(cè)量，以及納米薄膜的厚度和折射率同時(shí)測(cè)量。EX2儀器還可用于同時(shí)測(cè)量塊狀材料（如，金屬、半導(dǎo)體、介質(zhì)）的折射率n和消光系數(shù)k。
注：(1)測(cè)量重復(fù)性：是指對(duì)標(biāo)準(zhǔn)樣品上同一點(diǎn)、同一條件下連續(xù)測(cè)量30次所計(jì)算的標(biāo)準(zhǔn)差。
特點(diǎn)
- 經(jīng)典消光法橢偏測(cè)量原理
儀器采用消光法橢偏測(cè)量原理，易于操作者理解和掌握橢偏測(cè)量基本原理和過(guò)程。
- 方便安全的樣品水平放置方式
采用水平放置樣品的方式，方便樣品的取放。
- 緊湊的一體化結(jié)構(gòu)
集成一體化設(shè)計(jì)，簡(jiǎn)潔的儀器外形通過(guò)USB接口與計(jì)算機(jī)相連，方便使用。
- 高準(zhǔn)確性的激光光源
采用激光作為探測(cè)光波，測(cè)量波長(zhǎng)準(zhǔn)確度高。
- 豐富實(shí)用的樣品測(cè)量功能
可測(cè)量納米薄膜的膜厚和折射率；塊狀材料的復(fù)折射率、樣品反射率、樣品透過(guò)率。
- 便捷的自動(dòng)化操作
儀器軟件可自動(dòng)完成樣品測(cè)量，并可進(jìn)行方便的測(cè)量數(shù)據(jù)分析、儀器校準(zhǔn)等操作。
- 安全的用戶(hù)使用權(quán)限管理
軟件中設(shè)置了用戶(hù)使用權(quán)限（包括：管理員、操作者等模式），便于儀器管理和使用。
- 可擴(kuò)展的儀器功能
利用本儀器，可通過(guò)適當(dāng)擴(kuò)展，完成多項(xiàng)偏振測(cè)量實(shí)驗(yàn)，如馬呂斯定律實(shí)驗(yàn)、旋光測(cè)量實(shí)、旋光等。
應(yīng)用
EX2適合于教學(xué)中單層納米薄膜的薄膜厚度測(cè)量，也可用于測(cè)量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k。EX2可測(cè)量的樣品涉及微電子、半導(dǎo)體、集成電路、顯示技術(shù)、太陽(yáng)電池、光學(xué)薄膜、生命科學(xué)、化學(xué)、電化學(xué)、磁質(zhì)存儲(chǔ)、平板顯示、聚合物及金屬表面處理等領(lǐng)域。技術(shù)指標(biāo)
| 項(xiàng)目 | 技術(shù)指標(biāo) |
| 儀器型號(hào) | EX2 |
| 測(cè)量方式 | 自動(dòng)測(cè)量 |
| 樣品放置方式 | 水平放置 |
| 光源 | He-Ne激光器，波長(zhǎng)632.8nm |
| 膜厚測(cè)量重復(fù)性* | 0.5nm (對(duì)于Si基底上100nm的SiO2膜層) |
| 膜厚范圍 | 透明薄膜：1-4000nm吸收薄膜則與材料性質(zhì)相關(guān) |
| 折射率范圍 | 1.3 – 10 |
| 探測(cè)光束直徑 | Φ2-3mm |
| 入射角度 | 30°-90°，0.05° |
| 偏振器方位角讀數(shù)范圍 | 0-360° |
| 偏振器步進(jìn)角 | 0.014° |
| 樣品方位調(diào)整 | Z軸高度調(diào)節(jié)：16mm二維俯仰調(diào)節(jié)：±4° |
| 允許樣品尺寸 | 樣品直徑可達(dá)Φ160mm |
| 配套軟件 | * 用戶(hù)權(quán)限設(shè)置* 多種測(cè)量模式選擇* 多個(gè)測(cè)量項(xiàng)目選擇* 方便的數(shù)據(jù)分析、計(jì)算、輸入輸出 |
| 外形尺寸 | 約400*400*250mm |
| 儀器重量（凈重） | 約20Kg |
| 選配件 | * 半導(dǎo)體激光器 |
性能保證
- ISO9001國(guó)際質(zhì)量體系下的儀器質(zhì)量保證
- 的橢偏測(cè)量原理課程
- 的儀器使用培訓(xùn)
