XPR-500C電腦型偏光熔點(diǎn)儀

一、儀器的主要用途和特點(diǎn)
    XPR-500型偏光熔點(diǎn)測定儀是地質(zhì)、礦產(chǎn)、冶金、石油化工、化學(xué)纖維、半導(dǎo)體工業(yè)以及藥品檢驗(yàn)等部門和相關(guān)高等院校的高分子...等常用的實(shí)驗(yàn)儀器。可供廣大用戶作單偏光觀察，正交偏光觀察，錐光觀察以及顯微攝影，來觀察物體在加熱狀態(tài)下的形變、色變及物體的三態(tài)轉(zhuǎn)化。
 本系統(tǒng)廣泛應(yīng)用于高分子材料、聚合物材料等化工領(lǐng)域，適用于研究物體的結(jié)晶相態(tài)分析、共混相態(tài)分布、粒子分散性及尺寸測量、結(jié)晶動力學(xué)的過程記錄分析、液晶分析、織態(tài)結(jié)構(gòu)分析、熔解狀態(tài)記錄觀察分析等總多研究方向。
    偏光顯微熔點(diǎn)測定儀XPR-500系統(tǒng)匯集了光電、模式識別、精密加工、圖象學(xué)、自動控制、模量學(xué)等總多研究領(lǐng)域的當(dāng)前技術(shù)，多年研究開發(fā)的結(jié)果，在國內(nèi)享有.本儀器的具有可擴(kuò)展性，可以接計(jì)算機(jī)和數(shù)碼相機(jī)。對圖片進(jìn)行保存、編輯和打印。

二、XPR-500C電腦型偏光熔點(diǎn)儀的主要技術(shù)指標(biāo)

1.顯微鏡技術(shù)參數(shù):

2.精密溫度控制儀的用途：
    CK-300型精密溫控加熱臺是專為材料學(xué)、生物化學(xué)、冶金學(xué)、化學(xué)、高分子及納米材料學(xué)而研制。與光學(xué)或電子顯微鏡配合使用，在微觀上觀察其溶化、升華、結(jié)晶過程中的狀態(tài)和各種變化。
   加熱臺由精密溫度控制儀和載物恒溫工作臺二部分組成，二者由一5芯線纜插口連接，載物恒溫工作臺置于光學(xué)或電子顯微鏡載物臺上。適用配合偏光顯微鏡構(gòu)成偏光熔點(diǎn)測量系統(tǒng)。

三、熔點(diǎn)儀技術(shù)參數(shù):
1)輸入電源： 交流220V &plun;10%  45-60HZ             2)熱臺加熱工作電源：直流  24V  1.5A
3)功耗：75W                                       4)溫度范圍：室溫——400℃
5)熱臺外體溫度：熱體400℃;室溫25℃時≤70℃    6)熱體載物重量：200克
7)工作方式：連續(xù)                                   8)：測量：全范圍≤&plun;0.5%
9)系統(tǒng)波動度：&plun;1℃                              10)升溫速度：室溫——100℃≤40秒
11)慢升溫速度達(dá)400℃時間:  4小時               12)可設(shè)置升溫速度范圍：0.5——36秒/℃
13)即刻恒溫響應(yīng)時間：≤0.01秒

四、系統(tǒng)組成:     1、偏光顯微鏡XPR-500         2、電腦適配鏡      

3、300萬像素彩色數(shù)字?jǐn)z像機(jī)          4、CK-300控溫?zé)崤_