原裝MYCRO掩膜對準曝光機，包含EM-5026M1，EM-5086，EM-5026B，EM-5026AM四個型號，是的光刻系統，廣泛應用于半導體、微電子、生物器件和納米科技領域；并且該系列的掩膜對準曝光機已經被眾多企業、研發中心、研究所和高校采用，作為他們光掩膜對準曝光機作為光刻系統，重要的技術在于以下兩個方面：掩模-晶圓片對準，以及將掩模版上的圖案復制到晶圓片上，為下一步進行可是或者離子注入工序做好準備。作為他們光刻系統的；其的技術、精湛的工藝和良好的服務，了廣大用戶的青睞。
MYCRO掩膜對準曝光機/光刻系統的曝光方式，是采用可調節壓力的接觸式曝光，降低了光刻膠對掩模版的污染以及掩模版的磨損，從而掩模版的壽命。因此，MYCRO紫外曝光機/光刻系統以其高的性價比而讓人印象深刻。
掩膜對準曝光機/光刻系統的組件主要包含：
紫外光源構造
帶托盤的晶片工作臺
配CCD鏡頭的顯微鏡
器
掩膜夾具
紫外光源透鏡
紫外光源鏡片
紫外燈電源系統
操作控制器
350W紫外燈
需要更詳細的產品資料，
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MYCRO掩膜對準曝光機/光刻系統的曝光方式，是采用可調節壓力的接觸式曝光，降低了光刻膠對掩模版的污染以及掩模版的磨損，從而掩模版的壽命。因此，MYCRO紫外曝光機/光刻系統以其高的性價比而讓人印象深刻。
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紫外光源構造
帶托盤的晶片工作臺
配CCD鏡頭的顯微鏡
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