探測器：AMPTEK X-123
　　X光管靶材：鎢（W）靶  
　　X光管電壓：1-50KV
　　X光管電流：1-1000uA  
　　穩(wěn)定度：小于 0.05％
　　測量對象：固體、液體、粉末  
　　測量時(shí)間：100-300s
　　元素范圍：硫（S）-鈾（U）
　　檢測下限：2ppm
　　含量范圍：2ppm-99.99％
　　＊鍍層：5層，厚度0～40 m
　　＊鍍層種類：電鍍、蒸鍍、離子鍍
　　
　　產(chǎn)品參數(shù)
　　輸入電壓：AC 220V／50Hz
　　功耗：260W
　　外型尺寸：560×390×410mm
　　樣品腔空間：320×320×118mm
　　重量  ：42Kg
　　工作環(huán)境溫度：20-30℃
　　工作濕度：40-70％
　　樣品臺：手動定位  
　　濾光片：6個(gè)，手動切換
　　準(zhǔn)直器：3個(gè)，手動切換
　　
　　軟件
　　功能：含量分析、厚度分析、有標(biāo)樣測試、無標(biāo)樣測試
　　定性分析：快速定性分析元素硫（S）-鈾（U）
　　半定量分析：FP法、薄膜FP法、理論a系數(shù)法
　　定量分析：標(biāo)準(zhǔn)曲線校正
　　測鍍層須新增軟件模塊
　　
　　＊＊＊＊＊硬件體系＊＊＊＊＊
　　＊＊高分辨率探測器
　　美國原裝電制冷Si-PIN探測器，了的核電子多道脈沖幅度分析器。
　　＊＊精密穩(wěn)定的高壓電源
　　采用工業(yè)級X射線熒光分析的精密高壓電源，為X射線光管提供長時(shí)間的穩(wěn)定高壓。
　　＊＊低功率X射線光管
　　采用W／Rh靶X射線管，風(fēng)扇制冷，設(shè)計(jì)壽命5萬小時(shí)。
　　＊＊高像素?cái)z像頭，定位
　　內(nèi)置130萬像素高清攝像頭以及電動樣品移動裝置，方便對樣品掃描區(qū)域的準(zhǔn)確定位和觀察。
　　＊＊的X射線護(hù)體系
　　采用電源開關(guān)鎖、樣品蓋開合檢測等裝置X射線的泄漏，操作人員的。
　　
　　＊＊＊＊＊軟件簡介＊＊＊＊＊
　　＊＊的光譜分析方法
　　緊跟國際前沿的X射線光譜分析方法，科學(xué)的對光譜進(jìn)行元素定性、定量分析。
　　＊＊FP基本參數(shù)法、理論系數(shù)法多種含量校正方法
　　多種含量校正方法，解決復(fù)雜樣品元素之間的基體影響。
　　＊＊無標(biāo)樣分析
　　真正意義上實(shí)現(xiàn)標(biāo)樣的含量、鍍層分析。對于含量分析，高含量元素相對誤差范圍可控制在1％以內(nèi)；對于鍍層分析，厚度相對誤差范圍可控制在10％以內(nèi)。
　　＊＊鍍層厚度分析
　　選用的功能模塊實(shí)現(xiàn)對鍍層厚度的分析，使用戶無需添加額外硬件即可進(jìn)行鍍層厚度分析。
　　
　　＊＊＊＊＊產(chǎn)品優(yōu)勢＊＊＊＊＊
　　由于采用了復(fù)雜的計(jì)算、校正算法，程度上減少了定量分析需要的標(biāo)樣，這在同行中處于。
　　X射線熒光分析，需要針對不同的行業(yè)、不同應(yīng)用使用大量標(biāo)準(zhǔn)樣品。而標(biāo)準(zhǔn)樣品很難獲取且價(jià)格不菲，困擾了很多使用者。為了解決用戶這些難題，研發(fā)人員花費(fèi)數(shù)年時(shí)間，跟蹤參考了國內(nèi)外諸多有關(guān)X射線熒光分析研究論文、成果，編寫出復(fù)雜的軟件算法，減小了X射線熒光測試對標(biāo)樣。對于鍍層測厚，我們提供了厚度標(biāo)樣、含量標(biāo)樣、無標(biāo)樣三種方案。
　　通過改進(jìn)硬件，Pb、CD等的檢測靈敏度2倍。采用新型濾光片，的降低X射線熒光本底，檢測靈敏度。
　　的光學(xué)準(zhǔn)直器，增強(qiáng)X射線熒光強(qiáng)度。
　　光學(xué)準(zhǔn)直器，光束小直徑達(dá)0.025mm，集中X射線光束，增強(qiáng)熒光強(qiáng)度，對微量元素的檢測以及鍍層的分析。