光譜儀技術配置
　　1.真空光學系統
　　— 巴邢—龍格架法，光柵焦距750mm
　　— 高發光全息光柵，刻線為2400條/mm
　　— 譜線范圍：200 ~ 800nm
　　— 色散率
　　色散率：0.55nm/mm
　　二級色散率：0.275nm/mm
　　— 分辨率：0.01nm
　　— 多可檢測通道：48個
　　— 240條可選譜線
　　2.譜線
　　— 每條待測譜線對應一個狹縫
　　— 每個通道包括
　　— 板帶上的一個二級狹縫
　　— 的光電管
　　— 一個反射鏡（取決于PMT的位置）
　　— 光電管的高壓可調
　　3.控制顯示系統
　　— 嵌入式計算機與觸摸屏的結合，控制并顯示儀器的狀態，儀器的自動化程度。
　　— 光室和電子單元配有恒溫系統。
　　— 溫度波動控制在＋/- 0.1℃
　　— 系統避免了溫度波動對儀器穩定性的影響。
　　— 火花立恒溫系統。
　　— 全通道負高壓顯示
　　4.控制及數據獲取電子單元
　　—16位模/數轉換微處理器
　　5.火花激發源
　　—放電參數由保護
　　—火花源放電穩定，不受供電系統波動的影響
　　—預火花技術，達600Hz
　　—光源頻率能量等參數連續可調
　　—放電參數：
　　
　　頻率 20-600Hz
　　電感 120uH
　　電阻 3.5Ohm
　　電容 5uF
　　電壓 380V
　　6.負高壓
　　—高負高壓模塊，負高壓<0.1%。
　　7.積分采集
　　—單火花數據采集，可以篩選掉異常火花，儀器分析。
　　— 積分技術，分析各通道可采用不同的積分，積分時間的匹配，儀器分析。
　　—U數據采集方式，數輸穩定，對電腦的要求低。
　　—多線程的數據采集方式，軟件的穩定性，數據的性
　　8.火花臺
　　— 火花臺尺寸為100 X 80mm，分析樣品重可達25Kg
　　— 護設備阻止不激發
　　— 銅基座火花臺，火花臺易于拆卸，便于清潔
　　— 帶有配件，易于檢測多種形狀的分析對象（餅狀、棒狀、線狀）
　　— 一體式透鏡隔離閥，透鏡與隔離閥一體，可以因日常維護導致的光室污染影響強度下降，透鏡易于更換
　　— 放電室設計，放電在條件下進行
　　— 激發電為鎢電
　　9.真空系統
　　—真空由真空泵和真空控制設備控制
　　—鑄造光室，熱膨脹系數低，真空度的要求
　　—吸附阱
　　—真空泵電磁隔離閥，真空泵油倒吸入光室
　　10.分析軟件
　　—包括不同基體不同曲線的計算
　　—全中文分析軟件，方便用戶操作
　　—第三元素干擾校正分析準確度
　　—軟件允許以下操作：
　　建立并修改分析程序
　　輸出方式可選（強度、強度比率、未校正濃度、校正濃度等）
　　分析結果的濃度單位可選
　　可進行通用標準化
　　類型標準化
　　校正元素間的干擾
　　可打印出過100次激發的結果及其平均值，標準偏差和相對標準偏差
　　在同一點可重復或多次激發，可剔除或多次激發結果
　　標準物質庫
　　可進行統計分析計算
　　可用不同語言輸出結果
　　可將分析結果輸出成office辦公軟件能接受的數據格式
　　硬盤存儲數據為以后的研究提供方便
　　 可連接外部計算機或中心系統