AJA公司的磁控濺射靶是為了滿足真空薄膜研究的需要而設計的。它的多功能性設計在世界上是處于的，如模塊化磁場排布、原位傾斜裝置、在靶上集成的氣環、圓錐形的靶罩以及其他真空的設計等。真空磁控濺射靶是目前市場上的研究用靶。
其主要功能及特點：
可以做直流和射頻濺射。
可以濺射磁性及非磁性材料。
模塊化磁場排布。
冷卻水和磁鐵不直接接觸。
真空設計。
不需要拆卸可直接烤到200攝氏度。
工作壓力范圍寬（0.5-1Torr）。
有較高的濺射速率和沉積均勻性。
可選部件：
＋／-45°傾斜裝置。
原位傾斜裝置。
集成在靶上的氣環。
圓錐形靶罩，用于非軸向濺射。
真空Z軸手動移動和氣動擋板。
復合法蘭。
其它要求。
其主要功能及特點：
可以做直流和射頻濺射。
可以濺射磁性及非磁性材料。
模塊化磁場排布。
冷卻水和磁鐵不直接接觸。
真空設計。
不需要拆卸可直接烤到200攝氏度。
工作壓力范圍寬（0.5-1Torr）。
有較高的濺射速率和沉積均勻性。
可選部件：
＋／-45°傾斜裝置。
原位傾斜裝置。
集成在靶上的氣環。
圓錐形靶罩，用于非軸向濺射。
真空Z軸手動移動和氣動擋板。
復合法蘭。
其它要求。
