K950X高真空蒸鍍儀在使用碳棒蒸鍍時可給出連續(xù)的碳膜，并且使用渦輪分子泵時無污染。它可用于TEM和X-Ray分析中的覆膜，以及SEM中的導電涂層。　
　　
　　在厚度為2nm（20埃）或更厚時膜是連續(xù)的。通常的沉積形式是加熱碳或石墨棒。棒具有特定的形狀以電流密度，使得它具有的溫度來引起蒸發(fā)?；谶@點，出現(xiàn)了細小的、亮的、熱的碳顆粒。此系統(tǒng)需要用擴散泵或渦輪分子泵1x10-4mbar或更高的真空度?！?
　　
　　渦輪分子泵在K950X中作為標準配置，此泵作為機械真空泵的后級泵，真空為全自動控制，真空度1x10-5mbar。可進行預熱及除氣控制，同時用瞬時蒸發(fā)開關使脈沖蒸發(fā)在用戶控制下進行?！?
　　
　　標準的旋轉樣品臺可進行傾斜調(diào)節(jié)，容易適應各種樣品座?？蛇x的樣品臺具有的凹槽，可放置標準的載玻片，這在“石棉分析”需要鍍碳層時尤為有利?！?
　　
　　碳棒頭在儀器中作為標準件。這是一個“快速釋放頭”，使用戶在選擇金屬蒸發(fā)附件、碳絲及光闌清洗頭時可方便地更換。放氣系統(tǒng)具有互鎖裝置，避免樣品受到干擾。渦輪分子泵可安裝在任何軸上，并且可地“關閉”直接通大氣?！?
　　
　　主要特點
　　●全自動抽氣系統(tǒng)
　　●旋轉樣品臺
　　●菜單驅動式“用戶”鍵盤輸入
　　●快速釋放頭方便選擇不同的頭
　　●約束的排氣控制
　　●渦輪分子泵抽真空　
　　●容易操作
　　●均勻的樣品涂層
　　●方便多用戶操作
　　●可用于蒸碳及蒸鍍金屬
　　●在排氣過程中可樣品損壞
　　●碳棒或碳絲蒸發(fā)。　
　　
　　技術參數(shù)
　　儀器尺寸：450mmWx350mm　Dx175mmH（Overall　height　with　Work　Chamber　750mm）；重量：28Kg
　　工作腔室：硼硅酸鹽玻璃165mm　Diax125mmH
　　鐘罩：聚碳酸酯
　　鋁機座：110mm　Diax115mmH
　　碳源：直徑3.2mm碳棒
　　旋轉樣品臺：直徑為60　mm，傾斜0-90o
　　到電距離為110mm到130mm
　　真空計范圍：ATM-1x10-5mbar
　　操作真空：1x10-2　to　1x10-5mbar
　　安培計：0-50　Amps
　　低電壓選擇：0-5V-15V-25V
　　除氣電流：0-25　Amps
　　渦輪分子泵：50L／Second　
　　Services　-Argon-Nominal　4psi。Rotary　Backing　Pump-Two　Stage　Vacuum　Pump　No。2，35L／Min　
　　complete　with　Vacuum　Hose?。Αil　Mist　Filter。2m3／Hr
　　電源：230V　50Hz（包括泵電流8安培）；115V　60Hz（包括泵電流16安培）。