氣體公司氬氣純化機氮氣純化機是蘇州晟宇氣體打造的高純氣體純化系列之一，以的工藝及外觀，高質量的氣體純度體現了精湛的技術含量，相對低廉的價位展示了微利銷售的經營理念，服務于廣大用戶
高純氬氣主要用途：用于焊接、不銹鋼制造、冶煉，還用于半導體制造工藝中的化學氣相淀積、晶體生長、熱氧化、外延、擴散、多晶硅、鎢化、離子注入、載流、燒結等氬氣作為制作單晶及多晶硅的保護氣，為了硅晶體的質量，如何選用較高純度的氬氣，是制作硅晶體的一個議題。通過本裝置對氬氣的使用，氬氣的純度其中氧含量小于1ppm時，水分也小于1ppm時，制作出的單晶硅其氧碳含量就小于0.5ppm，這樣就了單晶的使用壽命并能要求，客戶的滿意和市場的需求。由于一般液氬汽化后未經過純化處理，它的氧含量一般在2ppm~5ppm.有時氣體供應商提供的氬氣過了此范圍，但使用氬氣的客戶確不知道其質量，所以往往給生產產品質量造成影響。有了氬氣純化裝置后不論氬原料氣的質量如何，只要經過純化裝置的處理后，進入拉晶爐的氬氣，純度是恒定的。一般 O2＜0.2ppm，水分＜1ppm，這樣穩定的氬氣對生產晶體質量是有的。氬氣純化裝置是針對需要使用純度氬氣的客戶而設計的。廣泛應用于在金屬保護行業、電子、電光源、科研、氣體、分析、等領域以及光譜儀、氣相色譜儀、科學儀器等等已知或未知的寬廣領域
裝置特點：
1.催化劑采用了的催化材料。具有吸附深度高，吸收雜質氣量大的特點，經催化吸附干燥過濾后使其終純度達99.9999%以上。100級的氣體出口過濾器使其終純氣顆粒小于0.1μ，氣體滿足高純氣要求，原位再生功能了氣體的品質如一，了的終目的
2.本裝置閥門，容器，管路全系不銹鋼制作，均采用國內外制造企業的名優產品，直接了設備工作過程中的高真空無滲透及無故障運行性。
3.的控制儀表，電路電器選自高端跨國公司，如西門子，施耐德等。
4.設備連接接頭均選自企業的VCR接頭，滲漏，快捷。
5.人性化的外觀設計，使設備外形精巧更美觀，操作更方便
進出口微氧分析儀在線監測，直觀顯示原料氣體氧含量及純化后的氧氣含量。
純氣終過濾系統一用一備，更具人性化，徹底解決無故障運行顧慮。
加氫還原系統采用質量流量計控制，真正做到定時定量全自動運行。
一鍵式啟動設備，工作狀態實時顯示，操作簡單、、明了。
嚴格的質量控制，在制作過程中，邀請需方作全過程跟蹤督察。
一、設備工作原理
設備工作設有兩組工作組，填裝的凈化材料屬于可再生重復利用材料。原料液氬經汽化器汽化后由設備工作進入設備一組工作組，經脫氧劑、分子篩及精密過濾器后送出至工作點使用。一組工作組負荷飽和后，切換到另一組工作組工作，為使用點連續的提供高純氬氣。同時一組工作組開始再生加熱加氫反吹洗（本系統加氫是為了還原脫氧劑，加氫結束后設備自動吹洗并直接放空），為等待下切換使用做好準備。裝置工作為常溫工作，脫氧程度深、碳水含量低，均可并高于GB高純氬氣標準。
二、主要技術條件
1、處量≥2-320Nm3/h
2、工作壓力＜0.8Mpa
3、原料氬氣純度≥99.99%
4、純化后 O2≤0.2ppm CO＋CO2＜0.3ppm CH4＜0.2 ppm H2O≤1ppm
技術保障措施；
1組合式純化工藝，分級處理。
2凈化器采用結構和裝料方法，流速設計合理，氣流分布均勻。
3凈化爐采用設計的加熱構造，加熱均勻、穩定。
4采用優質管件，閥門，避免管道和閥門影響氣體質量。
5采用優質的電器元件和控制儀表，溫度穩定，減少溫度和影響。
6凈化器的活化程序，嚴格按照活化程序執行，根據現場實際情況適當調整。
7對用戶的操作員進行設備操作培訓，了解設備工作原理，掌握設備操作方法，熟悉設備的開車、停車、停電、停水處理方法。
8對用戶設備建立檔案，及時提醒用戶對設備進行例行檢查和維護。是設備處在工作狀態。
本裝置可與區熔硅單晶爐配套使用，也可用于激光器、濺射、真空濺射鍍膜機。半導體生產、光譜儀，氣相色譜儀、燈泡、金屬加工等需要用高純氬氣的生產技術領域。
高純氬氣主要用途：用于焊接、不銹鋼制造、冶煉，還用于半導體制造工藝中的化學氣相淀積、晶體生長、熱氧化、外延、擴散、多晶硅、鎢化、離子注入、載流、燒結等氬氣作為制作單晶及多晶硅的保護氣，為了硅晶體的質量，如何選用較高純度的氬氣，是制作硅晶體的一個議題。通過本裝置對氬氣的使用，氬氣的純度其中氧含量小于1ppm時，水分也小于1ppm時，制作出的單晶硅其氧碳含量就小于0.5ppm，這樣就了單晶的使用壽命并能要求，客戶的滿意和市場的需求。由于一般液氬汽化后未經過純化處理，它的氧含量一般在2ppm~5ppm.有時氣體供應商提供的氬氣過了此范圍，但使用氬氣的客戶確不知道其質量，所以往往給生產產品質量造成影響。有了氬氣純化裝置后不論氬原料氣的質量如何，只要經過純化裝置的處理后，進入拉晶爐的氬氣，純度是恒定的。一般 O2＜0.2ppm，水分＜1ppm，這樣穩定的氬氣對生產晶體質量是有的。氬氣純化裝置是針對需要使用純度氬氣的客戶而設計的。廣泛應用于在金屬保護行業、電子、電光源、科研、氣體、分析、等領域以及光譜儀、氣相色譜儀、科學儀器等等已知或未知的寬廣領域
裝置特點：
1.催化劑采用了的催化材料。具有吸附深度高，吸收雜質氣量大的特點，經催化吸附干燥過濾后使其終純度達99.9999%以上。100級的氣體出口過濾器使其終純氣顆粒小于0.1μ，氣體滿足高純氣要求，原位再生功能了氣體的品質如一，了的終目的
2.本裝置閥門，容器，管路全系不銹鋼制作，均采用國內外制造企業的名優產品，直接了設備工作過程中的高真空無滲透及無故障運行性。
3.的控制儀表，電路電器選自高端跨國公司，如西門子，施耐德等。
4.設備連接接頭均選自企業的VCR接頭，滲漏，快捷。
5.人性化的外觀設計，使設備外形精巧更美觀，操作更方便
進出口微氧分析儀在線監測，直觀顯示原料氣體氧含量及純化后的氧氣含量。
純氣終過濾系統一用一備，更具人性化，徹底解決無故障運行顧慮。
加氫還原系統采用質量流量計控制，真正做到定時定量全自動運行。
一鍵式啟動設備，工作狀態實時顯示，操作簡單、、明了。
嚴格的質量控制，在制作過程中，邀請需方作全過程跟蹤督察。
一、設備工作原理
設備工作設有兩組工作組，填裝的凈化材料屬于可再生重復利用材料。原料液氬經汽化器汽化后由設備工作進入設備一組工作組，經脫氧劑、分子篩及精密過濾器后送出至工作點使用。一組工作組負荷飽和后，切換到另一組工作組工作，為使用點連續的提供高純氬氣。同時一組工作組開始再生加熱加氫反吹洗（本系統加氫是為了還原脫氧劑，加氫結束后設備自動吹洗并直接放空），為等待下切換使用做好準備。裝置工作為常溫工作，脫氧程度深、碳水含量低，均可并高于GB高純氬氣標準。
二、主要技術條件
1、處量≥2-320Nm3/h
2、工作壓力＜0.8Mpa
3、原料氬氣純度≥99.99%
4、純化后 O2≤0.2ppm CO＋CO2＜0.3ppm CH4＜0.2 ppm H2O≤1ppm
技術保障措施；
1組合式純化工藝，分級處理。
2凈化器采用結構和裝料方法，流速設計合理，氣流分布均勻。
3凈化爐采用設計的加熱構造，加熱均勻、穩定。
4采用優質管件，閥門，避免管道和閥門影響氣體質量。
5采用優質的電器元件和控制儀表，溫度穩定，減少溫度和影響。
6凈化器的活化程序，嚴格按照活化程序執行，根據現場實際情況適當調整。
7對用戶的操作員進行設備操作培訓，了解設備工作原理，掌握設備操作方法，熟悉設備的開車、停車、停電、停水處理方法。
8對用戶設備建立檔案，及時提醒用戶對設備進行例行檢查和維護。是設備處在工作狀態。
本裝置可與區熔硅單晶爐配套使用，也可用于激光器、濺射、真空濺射鍍膜機。半導體生產、光譜儀，氣相色譜儀、燈泡、金屬加工等需要用高純氬氣的生產技術領域。
