本設備為科研工作者在新材料的開發和研制中提供了在高真空、高溫和強磁場復合條件下處理實驗樣品的環境。其性在于將真空、加熱和磁場這三個模塊系統地整合到一個統一的整體。并在加熱升/降溫過程和磁場加載卸載過程中采用PID程序控制，實現加載實驗過程的自動化和程序化。該設備操作簡單，維護方便，溫度和磁場的控制高，穩定性好。
2010年底我公司沙特阿卜杜拉科技大學實驗設備的采購訂單
真空系統采用旋片式機械泵與渦輪分子泵串聯組合結構，系統在工作溫度下可實現較高的真空度。系統配備了微調進氣閥，方便用戶在實驗過程中向真空腔內充氬氣、氮氣等氣體，降溫速度。
加熱系統采用40段可編程PID控制器。恒溫控制為±1℃。
磁場產生系統同樣采用40段可編程PID控制器。恒磁控制為±0.1mT.
冷卻水系統采用監控結構，利用溫度傳感器分別監測加熱爐冷卻水和真空泵冷卻水水溫，通過微調流量閥，分別調節加熱爐磁場及分子泵的冷卻水流量，控制出口水溫。
本公司可根據客戶需要設計制造更高溫度、更強磁場、更高真空度和更大的實驗樣品空間的“高真空強磁場熱處理爐”。
2010年底我公司沙特阿卜杜拉科技大學實驗設備的采購訂單
真空系統采用旋片式機械泵與渦輪分子泵串聯組合結構，系統在工作溫度下可實現較高的真空度。系統配備了微調進氣閥，方便用戶在實驗過程中向真空腔內充氬氣、氮氣等氣體，降溫速度。
加熱系統采用40段可編程PID控制器。恒溫控制為±1℃。
磁場產生系統同樣采用40段可編程PID控制器。恒磁控制為±0.1mT.
冷卻水系統采用監控結構，利用溫度傳感器分別監測加熱爐冷卻水和真空泵冷卻水水溫，通過微調流量閥，分別調節加熱爐磁場及分子泵的冷卻水流量，控制出口水溫。
本公司可根據客戶需要設計制造更高溫度、更強磁場、更高真空度和更大的實驗樣品空間的“高真空強磁場熱處理爐”。
其他說明
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產品名稱 |
高真空強磁場熱處理爐 |
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產品型號 |
VM-500 |
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輸入電壓 |
三相 380V |
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總功耗 |
~ 3kw |
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冷卻水入水溫度 |
≤ 25 ℃ |
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冷卻水出水溫度 |
≤ 40℃ |
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冷卻水流量 |
≤ 3 升 / 分鐘 |
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樣品大小 |
5* Ø 2 0 mm |
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設備尺寸 |
720mm( 長 )* 760mm( 寬 )* 760mm( 高 ) |
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設備凈重 |
246kg |
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真空系統參數 |
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| 前級真空泵 |
旋片式機械泵 |
| 真空泵 |
渦輪式分子泵 |
| 真空計 |
兩級復合真空計 |
| 冷態真空度 |
~ 1E-5Pa |
| 800 ℃ 真空度 |
~ 1E-4Pa |
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加熱系統參數 |
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| 溫度范圍 |
室溫~ 800 ℃ |
| 控制方式 |
1* 40/2* 20/4* 10 可編程 PID 控制 |
| 測溫 |
鉑銠 / 鎳鉻鎳硅 熱電偶 |
| 控溫 |
&plun; 1 ℃ |
| 升溫速度 |
≤ 10℃/ 分鐘 |
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磁場系統參數 |
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| 磁感應強度范圍 |
0 ~ 50mT |
| 磁場類型 |
磁線圈 |
| 磁場方向 |
水平 |
| 磁場控制方式 |
1* 40/2* 20/4* 10 可編程 PID 控制 |
| 磁場控制 |
&plun; 0.1mT |
| 磁場加載速度 |
≤ 50mT/ 分鐘 |
