世界原位薄膜應力測量系統，又名薄膜應力計或原位薄膜應力儀！MOS美國技術！
采用激光非接觸的方法，用于薄膜表面應力、曲率和翹曲測量，而且可對樣品整個表面的翹曲、應力分布進行二維實時成像分析；
技術指標：
1、掃描范圍：200mm（x，y）；
2、掃描速度：20mm／s（x，y）；
3、掃描分辨率：2μm；翹曲半徑分辨率100Km；
4、平均曲率分辨率：＜2e-5（1／m）1-sigma（50km radius）1-sigma
5、平均翹曲測量重復性：＜5e-6（radians）1-sigma；
6、平均曲率重復性：＜2×10-5 1／m（1sigma）
7、程序化控制掃描模式：選定區域、多點線性掃描、積掃描；
8、成像功能：樣品表面2D曲率成像，定量薄膜應力成像分析；
9、測量功能：曲率、曲率半徑、應力強度、應力和翹曲等。
該設備已經廣泛被高等學府、半導體制和微電子造商等所采用。
采用激光非接觸的方法，用于薄膜表面應力、曲率和翹曲測量，而且可對樣品整個表面的翹曲、應力分布進行二維實時成像分析；
技術指標：
1、掃描范圍：200mm（x，y）；
2、掃描速度：20mm／s（x，y）；
3、掃描分辨率：2μm；翹曲半徑分辨率100Km；
4、平均曲率分辨率：＜2e-5（1／m）1-sigma（50km radius）1-sigma
5、平均翹曲測量重復性：＜5e-6（radians）1-sigma；
6、平均曲率重復性：＜2×10-5 1／m（1sigma）
7、程序化控制掃描模式：選定區域、多點線性掃描、積掃描；
8、成像功能：樣品表面2D曲率成像，定量薄膜應力成像分析；
9、測量功能：曲率、曲率半徑、應力強度、應力和翹曲等。
該設備已經廣泛被高等學府、半導體制和微電子造商等所采用。
