應用領域
集成電路光刻:制造工具
集成電路光刻:157nm,193nm,248nm準分子激光光束傳輸系統
非光刻:激光和成像光學
關鍵特性
優異的深紫外性具體材料指標,
高激光耐久性
低應力雙折射
高折射率一致性
紫外率曲線
率曲線
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86-21-58959778

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