德國PfeifferHLT 560氦質譜檢漏儀用于PECVD鍍膜設備檢漏應用實例(福建的太陽能晶體硅電池制造公司)
一、鍍膜設備檢漏原因
福建的太陽能晶體硅電池制造公司,生產太陽能單晶和多晶電池片.該公司在生產過程中應用了PECVD沉積Si3N3減反層, 4-5天設備需要保養(yǎng)(清潔MASK,更換支架等等),由于是清潔設備內部,所以存在內部腔體密封性失效的可能.如果鍍膜設備密封性不好,鍍出來的產品膜厚會不均勻,產品四周膜參數(shù)會不合格.
如果鍍膜設備保養(yǎng)完成后,能做檢漏,就可以避免很多不合格產品的產生,節(jié)約生產成本的目的.德國Pfeiffer的HLT 560氦質譜檢漏儀具有操作簡單,反應靈敏的特點,得到了客戶的青睞.
二、鍍膜設備檢漏操作
示意圖如下:
1),將氦質譜檢漏儀HLT 560連接到泵組前的檢漏口上.
2),啟動檢漏儀,檢漏儀開始抽取密閉腔體中的氣體,同時啟動鍍膜設備的泵組.
3),在鍍膜機內部的真空下降到程度的時候,如0.5 mbar以下的時候,拿氦氣噴在懷疑有漏的地方,或者檢查標準保養(yǎng)時動到的部位.這時需要有人觀察檢漏儀的漏率指示值的變化.當漏率上升或漏率值變化劇烈的時候,及時指出漏點所在位置,并做記號.
4),可疑點都檢測完成后,關閉檢漏儀,停下鍍膜機的泵組并將鍍膜機打開,將檢測出的漏點進行處理(如更換密封圈,清潔等等).處理完成后,再按照前敘步驟檢查一遍,直到漏點都被清除,檢漏過程完成.
