- 儀器簡介：
- 微區(qū)X射線熒光光譜分析技術(shù)是對不均勻樣品、不規(guī)則樣品、甚至小件樣品和包裹物進(jìn)行高靈敏度的、非破壞性的元素分析的方法。采用多導(dǎo)毛細(xì)管聚焦鏡將激發(fā)光聚焦到小的區(qū)域，以獲得的空間分辨率，進(jìn)行快速分析。任何類型的樣品都可以通過簡單的樣品制備甚至不制備直接進(jìn)行分析。
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技術(shù)參數(shù)： -
技術(shù)參數(shù)
樣品類型 固體、顆粒、液體、多層膜
樣品室尺寸 W×D×H：600×350×260mm
樣品臺尺寸 W×D：330×170mm
測量氣氛 大氣/真空，在100秒內(nèi)準(zhǔn)備就緒
樣品移動(dòng) 移動(dòng)范圍 W×D×H：270×240×120mm
移動(dòng)速度 渦輪增速樣品臺移動(dòng)速度可達(dá)100mm/s
激發(fā) 配多導(dǎo)毛細(xì)管聚焦鏡的度X射線光管
選項(xiàng)：可同時(shí)使用不同靶材的雙光管
X射線光管參數(shù)
靶材 Rh，可選靶材：Mo，Ag，Cu，W
電壓 50kV,800μA
光斑大小 小于30μm（對于Mo-K）
濾光片 根據(jù)用戶要求，多6塊濾光片
探測器 XFlash®硅漂移探測器
選項(xiàng)：可多同時(shí)使用3個(gè)探測器
探測器參數(shù)
面積 10mm2，選項(xiàng)：30mm2
能量分辨率 計(jì)數(shù)率250,000cps時(shí)分別125eV、135eV
儀器控制 的PC機(jī)，Windows XP或Vista操作系統(tǒng)
儀器控制功能 光管參數(shù)、濾光片、光學(xué)顯微鏡、樣品照明和樣品定位的控制
光譜評估 譜峰識別、人工和自動(dòng)背景校正、峰面積計(jì)算、對于塊狀樣品和多層膜樣品基于標(biāo)樣和無標(biāo)樣模式的定量分析
分布分析 “飛行中”測量模式，HerMap軟件功能
結(jié)果顯示 定量結(jié)果、統(tǒng)計(jì)計(jì)算、元素分布（線掃描、面分布）
電源要求 110-240V（1P），50/60Hz
尺寸（寬×深×高） 815×680×580mm，130kg
質(zhì)量和 DIN EN ISO 9001:2000, CE
輻射護(hù)系統(tǒng)；輻射劑量＜1μSv/h -
主要特點(diǎn)： - M4 TORNADO采用了的技術(shù)，為各種用戶提供了的分析性能和方便的操控性。
- 采用多導(dǎo)毛細(xì)管聚焦鏡，照射光斑小，空間分辨率。
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渦輪增速X-Y-Z樣品臺，借助放大倍數(shù)可變的攝像系統(tǒng)獲得的樣品影像，可在“飛行中”進(jìn)行元素分布分析。
度的X射線光管與多導(dǎo)毛細(xì)管聚焦鏡相結(jié)合，在小的照射區(qū)域內(nèi)獲得高的激發(fā)強(qiáng)度。采用濾光片和可以同時(shí)使用的配有不同靶材的雙光管，可以根據(jù)不同的分析要求，優(yōu)化激發(fā)光譜。 - 使用XFlash®探測器速地獲取樣品圖譜，另外，使用多個(gè)探測器可以進(jìn)一步測量速度。
- 采用無標(biāo)樣分析法定量分析塊狀樣品，分析多層膜樣品。
鉑悅儀器(上海)有限公司
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