提供的圖像質量和穩固的機械結構；
操作簡便，附件，廣泛應用于教學科研金相分析、
半導體硅晶片檢測、地址礦物分析、精密工程測量等領域
■ 光學系統：無限遠色差校正光學系統（CSIS），像質更好，分辨率更高，觀察更舒適。
■ 目鏡及物鏡：高眼點、寬視野平場目鏡，PL10x/22mm，提供更加寬闊平坦的觀察空間并可加裝用于測量的各類測微尺，無限遠平場消色差長工作距金相物鏡，無蓋玻片設計。
■ 觀察筒：鉸鏈式雙目/三目/數碼一體化觀察筒，視度可調節，30°傾斜，可進行攝影攝像，對觀察圖像進行采集和保存，配置電腦和軟件實現圖像分析。
■ 調焦機構：低手位粗微調同軸調焦機構，粗調行程28mm，微調0.002mm，帶有平臺位置上下調節機構，樣品高度可達50mm（反射）、30mm（透反射），帶有粗調松緊調節裝置和隨機限位裝置。
■ 照明系統：反射照明器帶斜照明裝置，可以再觀察細微組織結構時產生浮雕立體的觀察效果，自適應90V-240V寬電壓，單顆3WLED高亮度冷光源。技術規格
光學系統 | 無限遠色差校正光學系統 |
觀察筒 | 鉸鏈式雙目頭，30°傾斜，可360o旋轉，瞳距調節范圍：54-75mm，單邊視度調節±5 |
鉸鏈式三目頭，分光比：雙目100%，雙目:三目=50%:50% | |
目鏡 | 高眼點大視野平場目鏡PL10X22mm |
高眼點大視野平場目鏡PL15X/16mm | |
物鏡 | 無限遠長工作距平場消色差金相物鏡： PL40X/0.6 /WD3.7mm |
轉換器 | 5孔內傾式轉換器 |
調焦機構 | 反射式機架,低手位粗微同軸調焦機構。粗調行程28mm,帶平臺位置上下調節機構,樣品高度50mm,微調0.002mm.帶有下滑的調節松緊裝置和隨機上限位裝置 |
透反兩用機架,低手位粗微同軸調焦機構。粗調行程28mm,帶平臺位置上下調節機構,樣品高度30mm,微調0.002mm.帶有下滑的調節松緊裝置和隨機上限位裝置.帶12V 50W光照明系統.上下光可控制. | |
載物臺 | 175×145mm雙層復合機械平臺,可拆卸;平臺經過工藝處理,腐.，移動范圍76mmX50mm，配反射用金屬載物臺板 |
175×145mm雙層復合機械平臺,可拆卸;平臺經過工藝處理,腐.，移動范圍76mmX50mm，配透、反兩用玻璃載物臺板 | |
反射照明系統 | 反射照明器,柯拉照明系統,帶視場光闌與孔徑光闌,中心可調;帶斜照明裝置，自適應90V-240V寬電壓輸入，單顆大功率3W LED，預定中心，亮度連續可調 |
照明系統 | 90-240V寬電壓,6V20W鹵素燈箱,燈絲中心可調，搖出式消色差聚光鏡(N.A 0.7) |
偏光裝置 | 起偏鏡 |
固定式檢偏鏡/可360度旋轉式檢偏鏡 | |
濾 | 反射用干涉濾光片：藍色≤480/綠色520-570/紅色630-750/色平衡片(白光) |
用：黃/綠/藍/中性 | |
攝影裝置 | 攝影接筒 |
攝像裝置 | 1.0X C型攝像接筒 |
