膜厚測(cè)試儀XU-100性能特點(diǎn)：

1）搭載微聚焦加強(qiáng)型X射線發(fā)生器和先進(jìn)的光路轉(zhuǎn)換聚焦系統(tǒng)，測(cè)量面積達(dá)0.03mm2

2）擁有無(wú)損變焦檢測(cè)技術(shù)，手動(dòng)變焦功能，可對(duì)各種異形凹槽件進(jìn)行無(wú)損檢測(cè)，凹槽深度范圍0-30mm

3）核心EFP算法，可對(duì)多層多元素，包括同種元素在不同層都可快、準(zhǔn)、穩(wěn)的做出數(shù)據(jù)分析（釹鐵硼磁鐵上Ni/Cu/Ni/FeNdB，精準(zhǔn)檢測(cè)外層Ni和第三層Ni的厚度）

4）配備高精密微型移動(dòng)滑軌，可實(shí)現(xiàn)多點(diǎn)位、多樣品的精準(zhǔn)位移和同時(shí)檢測(cè)

5）可同時(shí)分析23個(gè)鍍層，24種元素，測(cè)量元素范圍：氯Cl（17）- 鈾U（92），涂鍍層分析范圍：鋰Li（3）- 鈾U（92），涂鍍層檢出限：0.005μm

6）人性化封閉軟件，自動(dòng)判斷故障提示校正及操作步驟，避免誤操作

7）標(biāo)配φ0.2mm準(zhǔn)直器，測(cè)量面積可達(dá)0.03mm2

8）配有微光聚集技術(shù)，最近測(cè)距光斑擴(kuò)散度10%

膜厚測(cè)試儀XU-100軟件優(yōu)勢(shì)：

1. 清晰化操作界面布局

        簡(jiǎn)約的布局設(shè)計(jì)，可令操作員快速的掌握軟件基本操作。

2. 便捷化程式選擇

        增加了日常鍍層程序快捷鍵設(shè)計(jì)按鈕，無(wú)需進(jìn)入程序庫(kù)挑選，便可快速檢測(cè)，提升工作效率。

3. 高清可視化窗口

        可以清晰直觀的觀測(cè)到被檢測(cè)樣品的狀態(tài)，通過(guò)獨(dú)有的變焦調(diào)節(jié)旋鈕，達(dá)到用戶最

理想的觀測(cè)效果。

4. 多通道數(shù)字譜圖界面

        清晰化呈現(xiàn)被檢樣品的元素譜圖，配合先進(jìn)的解譜技術(shù)，精準(zhǔn)計(jì)算出結(jié)果。

5. 儀器狀態(tài)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)數(shù)據(jù)匯總

        可一目了然的觀測(cè)到儀器運(yùn)行狀況，有任何異常，系統(tǒng)都將提醒，大大降低操作失誤。

膜厚測(cè)試儀XU-100在釹鐵硼鍍鎳鍍銅鍍鎳（Ni/Cu/Ni/NdFeB）的測(cè)試：

釹鐵硼磁鐵具有優(yōu)異的磁性能，被廣泛應(yīng)用于電子、電力機(jī)械、醫(yī)療器械、玩具、包裝、五金機(jī)械、航天航空等領(lǐng)域。

釹鐵硼磁鐵的常見(jiàn)的電鍍方式為鍍鎳鍍銅再鍍鎳，由于該類鍍層方式中同一元素Ni鍍層分布在不同的層級(jí)，加上X射線熒光檢測(cè)的是元素的熒光能量，對(duì)于分布在不同層的同一元素，普通儀器不能具體區(qū)分熒光來(lái)自具體的哪一層。