- 企業(yè)類型：制造商
- 新舊程度：全新
- 原產(chǎn)地：中國
- 行程：80*60mm
- 物鏡放大倍率：10X 20X 50X
- 量測(cè)解析度： 0.1nm
白光干涉技術(shù)以可見白光為光源，光源發(fā)出的 白光通過干涉物鏡后，在物鏡出口處的半透射 光學(xué)平面反射一半光強(qiáng)，另一半光強(qiáng)透射后照 射在量測(cè)物表面，量測(cè)物表面的反射光又再次 進(jìn)入干涉物鏡與原光學(xué)平面的反射光產(chǎn)生干涉 由于白光為短同調(diào)光，干涉條紋只產(chǎn)生 在焦點(diǎn)位置，排除焦點(diǎn)外與雜光所導(dǎo)致的干擾 搭配「高速面型CCD 攝像機(jī)」記錄干涉條紋產(chǎn)生的位置，再搭載「納米級(jí)垂直掃描器」移動(dòng)物鏡記錄納米級(jí)的高度位置，就能重現(xiàn)量測(cè)對(duì)象的3D 表面形貌。
使用白光為干涉光源，在物鏡焦點(diǎn)位置能產(chǎn)生干涉條紋，排除焦點(diǎn)外與雜光所導(dǎo)致的干擾，搭配高速面型CCD 攝像機(jī)直接提取整個(gè)畫面，不需要逐點(diǎn)掃描，迅速又直接。
干涉物鏡搭載「納米級(jí)垂直掃描器」 ,使鏡頭以「納米級(jí)」高精度的移動(dòng)，配合前沿的干涉條紋解析法實(shí)現(xiàn)了0.1 nm的解析能力。
使用的白光光源為一般儀器用光源，使用時(shí)間長，更換方便且不需要調(diào)校，相對(duì)于使用電子束或雷射等需要調(diào)校的顯微量測(cè)儀器，保養(yǎng)與維護(hù)容易。
量測(cè)對(duì)象只要有約1%的反射光束就能被量測(cè)，即使是玻璃或石英等高透明物體的表面這種難以計(jì)測(cè)的量測(cè)對(duì)象，也可以簡單快速的進(jìn)行測(cè)量。
規(guī)格
硬體與光學(xué)系統(tǒng) | |||
移動(dòng)臺(tái)(mm） | 平臺(tái)尺寸150x150,行程80x60 | ||
鏡筒放大倍率 | 1.0 | ||
物鏡放大倍率 | 10X | 20X | 50X |
觀察與量測(cè)范圍(mm) | 0.43×0.32 | 0.21X0.16 | 0.088X0.066 |
光學(xué)解析度(μm) | 1.15 | 0.86 | 0.62 |
收光魚度(Degrees） | 17 | 23 | 33 |
工作距離(mm) | 7.4 | 4.7 | 3.4 |
感測(cè)器解析度 | 640x480像素 | ||
Z軸移動(dòng)范圍 | 33 mm · 手動(dòng)細(xì)調(diào) | ||
Z軸位置數(shù)位顯示器 | 解析度0.5μm | ||
機(jī)臺(tái)重量 | 50 kg | ||
載重 | 1kg | ||
傾斜調(diào)整平臺(tái) | 雙軸/手動(dòng)調(diào)整 | ||
高度測(cè)量 | |||
測(cè)量范圍 | 100μm | ||
量測(cè)解析度 | 0.1 nm | ||
重復(fù)精度(σ)(1) | ≤0. 1%(量測(cè)高度：>10μm) ≤10nm(量測(cè)高度：1μm～10μm) ≤5nm(量測(cè)高度：<1μm) | ||
量測(cè)控制 | 自動(dòng) | ||
光源 | |||
光源類型 | 白光LED燈箱 | ||
平均使用壽命 | 30,000小時(shí) | ||
資料處理與顯示用電腦 | |||
中央處理運(yùn)算單元 | 雙核心以上CPU | ||
影像與資料顯示 | 17"液晶顯示 | ||
系統(tǒng) | Windows7 (2) | ||
電源與環(huán)境要求 | |||
電源 | AC110V/220V,50Hz /60Hz | ||
環(huán)境震動(dòng) | VC-C等級(jí)以上 | ||
量測(cè)與分析軟件 | |||
量測(cè)軟件/分析軟件 |
ProfileViewer軟體： 具VSI/PSI量測(cè)模式、ISO粗糙度/階高分析、多樣的2D和3D觀測(cè)視角圖、 圖像縮放、標(biāo)準(zhǔn)影像檔案格式轉(zhuǎn)換、報(bào)表輸出等。 | ||
