壬二酸乳膏工業化高速均質機，醫藥中間體高速研磨分散乳化機，軟膏膏劑乳化研磨分散機，高黏稠藥膏均質機，藥用乳膏外循環高速乳化均質機，復方爐甘石眼膏高速乳化機，高粘度乳膏高速乳化機，真空高速乳化機，膏凝膠速高剪切均質機

乳化機就是通過與發動機連接的均質頭的高速旋轉，對物料進行剪切，分散，撞擊，這樣物料就會變得更加細膩，促使油水相融，廣泛應用于化妝品，沐浴露，防曬霜，等很多膏霜類的產品都要用到乳化機，食品行業中的醬，果汁等，制藥行業中的軟膏，石油化工，油漆涂料油墨等都會用到乳化機。目制藥行業中需要用的也是比較多的，需要把藥品制作成藥膏，但是目大多數的乳化機都是直接把粉末狀的藥品直接進行乳化，這樣使藥品在進行乳化的時候藥品的乳化不均勻，達到的乳化效果也不是很好，從而影響藥膏的效果。

針對現有技術的不足，上海依肯新推出一種醫藥中間體高速研磨分散乳化機，上海依CMSD2000系列濕法研磨機是由膠體磨和分散機組合而成的高科技產品，先錐形研磨頭具有精細度遞升的多鋸齒凸起和凹槽。定轉子間隙可以根據需要無限制調整間隙。第二由轉定子組成。分散頭的設計也很好的滿足不同粘度物質以及顆粒粒徑的需求。整機采用佳的幾何機構的研磨定轉子，好的表面處理和優良的材料，可以滿足不同行業的多種需求。通過濕法研磨機定轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效的乳化、分散和粉碎，達到物料超細粉碎及乳化的效果，出料粒徑可以微納米。這樣使藥品粉末進行乳化，這樣乳化的更加均勻提高了乳化的效果等優點，這樣可以提高藥品的乳化效果，使研磨與乳化同時進行，使藥品乳化的更加的均勻，提高藥膏的使用效果。解決了在進行藥品乳化先將研磨好的粉末狀藥品一次性投入到乳化桶內進行乳化，這樣乳化的效果不是很好的問題。

影響研磨均質分散乳化結果的因素有以下幾點

1研磨和分散乳化頭的形式(批次式和連續式)(連續式比批次好)

2研磨和分散乳化頭的剪切速率(越大，效果越好)

3研磨和分散乳化頭的齒形結構(分為初齒，中齒，細齒，超細齒，約細齒效果越好)

4物料在分散墻體的停留時間，乳化分散時間(可以看作同等的電機，流量越小，效果越好)

5循環次數(越多，效果越好，到設備的期限，就不能再好)

線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

-剪切速率(s-1)=v 速率(m/s)g定-轉子間距(m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素:

-轉子的線速率

-在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子間距。

IKN定-轉子的間距范圍為0.2~0.4mm

速率V=3.14XD(轉子直徑)X轉速RPM/60

CMSD2000系列醫藥中間體高速研磨分散乳化機選型表

型號

流量轉速線速度 功率 入/出口連接

LHrpmm/skWDN

CMSD 2000/430014000414DN25/DN15

11CMSD 2000/510001050041DN40/DN32

CMSD2000/10 400072004122DN80/DN65

CMSD2000/20 1000049004145DN80/DN65

CMSD 2000/30 20000 28504190DN150/DN125

CMSD 2000/50 60000 110041160DN200/DN150

表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據。

流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，可以被調節到大允許量的10%

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