儀器簡介：
X射線晶體分析儀采用PLC控制技術(shù)，該技術(shù)控制，干擾性好，
可實(shí)現(xiàn)高壓部分無故障率。PLC控制高 X射線晶體分析儀采用PLC控
制技術(shù)，該技術(shù)控制，干擾性好，可實(shí)現(xiàn)本系統(tǒng)地工作。
技術(shù)參數(shù)：
一、X射線發(fā)生器：
管電壓：10～60KV由PLC自動(dòng)控制（1KV/step）；
管電流：2～80mA由PLC自動(dòng)控制（1mA/step）；
管電壓、管電流穩(wěn)定度≤0.3‰；
額定輸出功率：5KW；
PLC自動(dòng)定時(shí)，時(shí)間任意選擇；
有無壓、無流、過壓、過流、過功率、無水、X射線管溫保護(hù)。
二、X射線護(hù)罩：
采用高密度、高透光性的鉛玻璃作為X射線護(hù)裝置,外射線量≤0.3μSv/h。
三、X射線管：額定功率：2kW
焦點(diǎn)尺寸（mm） 點(diǎn)焦點(diǎn)（1×1）; 線焦點(diǎn)(0.4×14);
靶材：可選（W、Cu、Fe、Co、Cr、Mo等）
四、高壓電纜：
高壓電纜是X射線管與高壓發(fā)生器的連接電纜線。高壓電纜與高壓發(fā)生器插
座、管頭配合良好、，燈絲接點(diǎn)良好、，無接觸不良情況。
介電電壓：100KV
長度：3米
五、可配相機(jī)：
勞厄相機(jī)（國產(chǎn)）
平板相機(jī)（）
主要特點(diǎn)：
TDF-3000型晶體分析儀采用立式管套，四個(gè)窗口可以同時(shí)使用，它可作為研究物質(zhì)內(nèi)部的結(jié)構(gòu)，例如：單晶定向、檢驗(yàn)缺陷、物質(zhì)定性、測定點(diǎn)陣參數(shù)、測定殘余應(yīng)力、研究板材、棒材的結(jié)構(gòu)、研究未知物質(zhì)的結(jié)構(gòu)和單晶位錯(cuò)等。
