MYCRO提供美國原裝的單晶圓片和掩膜的清洗設備，均勻度高和國際水平的兆聲清洗解決方案。提供單晶片或者單片掩膜板的清洗，它通過控制聲波能量密度來對襯底表面進行壞的清洗。表面顆粒的去除可以調整化學試劑的配方成分，使得襯底表面存在少量的顆粒?；瘜W配比系統設計了小的化學試劑的消耗，它提供了程序化的混合方式使化學試劑在襯底表面均勻的分布。這個設計也提供了的化學工藝時間的控制，控制聲波去離子水的流量，然后襯底在熱氮氛圍里旋干。
　　根據用戶的應用需要，某些特定選項將有助于設備去除不想要的顆粒和雜質。
　　具體應用
　　清洗功能：
　?。烤A片
　??？藍寶石外延片
　　？晶圓框架上的芯片
　??？顯示面板
　　？ITO膜顯示材料
　?。坑袌D形掩膜和無圖形掩膜
　　？掩膜坯料
　??？薄膜式掩膜
　??？接觸式掩膜
　　光刻處理工藝：
　??？SPM剝離
　?。抗饪棠z涂膜
　?。抗饪棠z剝離工藝
　　刻蝕：
　??？金屬刻蝕（鋁，銅，鉻，鈦）
　　白骨化清洗：
　??？在晶圓片上和雙氧水的混合液
　??？紅外加熱
　　？刷洗
　??？兆聲雙氧水清洗
　??？熱氮和甩干  產品特點：
　?。酷槍?1英寸外徑或15x15英寸的基底
　?。柯暛h境清洗艙（可配備去離子水，清洗刷，熱去離子水，高壓去離子水，熱氮氣）
　??？化學臂
　　？帶化學的可變速清洗刷
　?。坑|屏用戶界面
　?。渴謩由?
　??？鎖和報警器
　　？占地尺寸30"D　x　26"W
　　可選配項：
　??？化學試劑傳送單元
　　？白骨化清洗
　??？臭氧發生器
　　？氫化雙氧水發生器
　?。扛邏弘p氧單元
　　？氫過氧化物
　??？紅外加熱
　?。侩p氧水循環裝置
　　？機械手上單元
　??？帶EFEM和SMIF界面的集群系統