品牌：恩科優(yōu)（N＆Q）
型號：NXQ400-6
產(chǎn)地：美國
一、產(chǎn)品簡介：
MYCRO原裝美國恩科優(yōu)N＆Q系列光刻機(jī)（Mask Aligner），是的光刻系統(tǒng)，在光刻領(lǐng)域有過35年的經(jīng)驗，售出1000多套設(shè)備，為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng)，廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機(jī)電MEMS、二管芯片、發(fā)光二體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域?？蛻羧缑绹娇蘸教旃?、飛利浦、摩托羅拉、惠普、美國半導(dǎo)體公司、牛津大學(xué)、劍橋大學(xué)、斯坦福大學(xué)、倫敦大學(xué)、臺塑、墨爾本大學(xué)、華盛頓州立大學(xué)、方大集團(tuán)、大聯(lián)大集團(tuán)、光寶科技、漢磊股份、廈門乾照光電股份有限公司等等。
恩科優(yōu)光刻機(jī)分為半自動和全自動兩大系列。其中，N＆Q4000系列光刻機(jī)是以半自動系統(tǒng)為主。該系統(tǒng)的操作性，的分辨率，均勻的光學(xué)系統(tǒng)，現(xiàn)代的接近式和接觸式光刻及的性價比，使恩科優(yōu)光刻系統(tǒng)已經(jīng)被各地眾多企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校采用，并成為他們光刻系統(tǒng)的；
二、技術(shù)參數(shù)：
1、芯片尺寸：5mm~150mm的圓片/方片和不規(guī)則碎片（支持對不規(guī)則碎片的卡盤設(shè)計）；
2、曝光波長：350nm-450nm（其它波長可選配）；
3、汞燈功率：350W/500W（其它功率可選配）；
4、分辨率：0.5um；
5、曝光模式：支持接近式曝光，各種接觸式（真空接觸、軟接觸、硬接觸等）曝光；
6、出射光強(qiáng)范圍：10mW/cm2~55mW/cm2＠405nm；
7、支持恒定光強(qiáng)或恒定功率模式；
8、曝光時間：0.1~999.9s；
9、對準(zhǔn)：雙高清彩色CCD＋雙高清彩色器，對準(zhǔn)可0.4微米內(nèi)；
10、掩膜尺寸：2 x 2英寸到 9 x 9英寸（2 x 2英寸需要掩膜轉(zhuǎn)換器）；
11、光強(qiáng)均勻性Uniformity：
<±1%over 2"區(qū)域；
<±2%over 4"區(qū)域；
<±3%over 6"區(qū)域；
12、雙面光刻：具備背面紅外對準(zhǔn)（IR BSA）和光學(xué)背面對準(zhǔn)（OBS BSA），雙面對準(zhǔn)≤2μm；
13、電源：高靈敏度光強(qiáng)可控電源。
可選型號：
NXQ400-6
NXQ400-8
NXQ800-6
NXQ8006 Sapphire
NXQ800-8
三、產(chǎn)品特點(diǎn)：
可選支持單面對準(zhǔn)和雙面對準(zhǔn)設(shè)計；
高清晰彩色雙CCD鏡頭采用的分裂視場顯微鏡鏡頭（基于無限遠(yuǎn)修正的CCD鏡頭設(shè)計）；雙頭高清全彩物鏡（單視場或分裂視場可供用戶靈活選擇）；
高清彩色雙顯示屏；
氣動軸承導(dǎo)軌設(shè)計，高精準(zhǔn)，低磨損，無需售后維護(hù)的；
具有自動執(zhí)行楔形誤差補(bǔ)償，并在找平后自動定位功能；
操作簡易，具有支持多操作員同臺使用的友好操作界面；
操控手柄調(diào)控模式的設(shè)計；
采用LED穿透物鏡照明技術(shù)，具有強(qiáng)對準(zhǔn)亮度；
采用基于無限遠(yuǎn)修正的顯微鏡鏡頭架構(gòu)；
衍射反射的光學(xué)光路設(shè)計；
帶保護(hù)功能的溫度和氣流傳感器；
全景準(zhǔn)直透鏡光線偏差半角：<1.84度；
設(shè)備穩(wěn)定性，耐用性；
四、需要更詳細(xì)的恩科優(yōu)光刻機(jī)產(chǎn)品資料
請與邁可諾技術(shù)有限公司中銷服務(wù)中心區(qū)域辦公室聯(lián)系！
長150mm 寬140mm 厚5mm
長140mm 寬65mm 厚5mm
型號：NXQ400-6
產(chǎn)地：美國
一、產(chǎn)品簡介：
MYCRO原裝美國恩科優(yōu)N＆Q系列光刻機(jī)（Mask Aligner），是的光刻系統(tǒng)，在光刻領(lǐng)域有過35年的經(jīng)驗，售出1000多套設(shè)備，為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng)，廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機(jī)電MEMS、二管芯片、發(fā)光二體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域?？蛻羧缑绹娇蘸教旃?、飛利浦、摩托羅拉、惠普、美國半導(dǎo)體公司、牛津大學(xué)、劍橋大學(xué)、斯坦福大學(xué)、倫敦大學(xué)、臺塑、墨爾本大學(xué)、華盛頓州立大學(xué)、方大集團(tuán)、大聯(lián)大集團(tuán)、光寶科技、漢磊股份、廈門乾照光電股份有限公司等等。
恩科優(yōu)光刻機(jī)分為半自動和全自動兩大系列。其中，N＆Q4000系列光刻機(jī)是以半自動系統(tǒng)為主。該系統(tǒng)的操作性，的分辨率，均勻的光學(xué)系統(tǒng)，現(xiàn)代的接近式和接觸式光刻及的性價比，使恩科優(yōu)光刻系統(tǒng)已經(jīng)被各地眾多企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校采用，并成為他們光刻系統(tǒng)的；
二、技術(shù)參數(shù)：
1、芯片尺寸：5mm~150mm的圓片/方片和不規(guī)則碎片（支持對不規(guī)則碎片的卡盤設(shè)計）；
2、曝光波長：350nm-450nm（其它波長可選配）；
3、汞燈功率：350W/500W（其它功率可選配）；
4、分辨率：0.5um；
5、曝光模式：支持接近式曝光，各種接觸式（真空接觸、軟接觸、硬接觸等）曝光；
6、出射光強(qiáng)范圍：10mW/cm2~55mW/cm2＠405nm；
7、支持恒定光強(qiáng)或恒定功率模式；
8、曝光時間：0.1~999.9s；
9、對準(zhǔn)：雙高清彩色CCD＋雙高清彩色器，對準(zhǔn)可0.4微米內(nèi)；
10、掩膜尺寸：2 x 2英寸到 9 x 9英寸（2 x 2英寸需要掩膜轉(zhuǎn)換器）；
11、光強(qiáng)均勻性Uniformity：
<±1%over 2"區(qū)域；
<±2%over 4"區(qū)域；
<±3%over 6"區(qū)域；
12、雙面光刻：具備背面紅外對準(zhǔn)（IR BSA）和光學(xué)背面對準(zhǔn)（OBS BSA），雙面對準(zhǔn)≤2μm；
13、電源：高靈敏度光強(qiáng)可控電源。
可選型號：
NXQ400-6
NXQ400-8
NXQ800-6
NXQ8006 Sapphire
NXQ800-8
三、產(chǎn)品特點(diǎn)：
可選支持單面對準(zhǔn)和雙面對準(zhǔn)設(shè)計；
高清晰彩色雙CCD鏡頭采用的分裂視場顯微鏡鏡頭（基于無限遠(yuǎn)修正的CCD鏡頭設(shè)計）；雙頭高清全彩物鏡（單視場或分裂視場可供用戶靈活選擇）；
高清彩色雙顯示屏；
氣動軸承導(dǎo)軌設(shè)計，高精準(zhǔn)，低磨損，無需售后維護(hù)的；
具有自動執(zhí)行楔形誤差補(bǔ)償，并在找平后自動定位功能；
操作簡易，具有支持多操作員同臺使用的友好操作界面；
操控手柄調(diào)控模式的設(shè)計；
采用LED穿透物鏡照明技術(shù)，具有強(qiáng)對準(zhǔn)亮度；
采用基于無限遠(yuǎn)修正的顯微鏡鏡頭架構(gòu)；
衍射反射的光學(xué)光路設(shè)計；
帶保護(hù)功能的溫度和氣流傳感器；
全景準(zhǔn)直透鏡光線偏差半角：<1.84度；
設(shè)備穩(wěn)定性，耐用性；
四、需要更詳細(xì)的恩科優(yōu)光刻機(jī)產(chǎn)品資料
請與邁可諾技術(shù)有限公司中銷服務(wù)中心區(qū)域辦公室聯(lián)系！
長150mm 寬140mm 厚5mm
長140mm 寬65mm 厚5mm
