產(chǎn)品說(shuō)明： . 中頻交流磁控濺射鍍鏌：HC系列真空膜機(jī)，采用的中頻交 流磁控濺射鍍膜技術(shù)。 . 中頻交流磁控濺射鍍膜技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)： . 蒸發(fā)速率與離化率高，穩(wěn)定不容易中毒。 . 膜層細(xì)膩致密，可穩(wěn)定控制膜厚和顏色。 . 沈積反應(yīng)膜層，穩(wěn)定。 . 可廣泛多樣地交聯(lián)搭配濺射耙的安裝方式。 . 可廣泛多樣地任意選擇耙材：使用導(dǎo)電材料與非導(dǎo)電材料靶 材，或不同靶材同時(shí)工作蒸發(fā)，或的鑲嵌復(fù)合靶鍍膜的 技術(shù)。 . 濺射靶的設(shè)計(jì)，的結(jié)構(gòu)，嚴(yán)格的磁場(chǎng)分配，合理的 水冷卻，經(jīng)過嚴(yán)密的氦氣測(cè)漏儀真空檢漏，長(zhǎng)時(shí)間工作穩(wěn)定 ，靶材利用率高。 . 簡(jiǎn)便的安裝設(shè)計(jì)與容易的保養(yǎng)維修，備件互換性好。系統(tǒng)展 。
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