產品說明：
. 真空離子鍍主要使用領域用途：
. 離子清洗、轟擊、刻蝕、沈積
. 離子加熱、滲透、注入
. 磁控濺射
. 電弧蒸發、離子化
. 相關領域的用途
. TIN鍍層技術指標：
. 熔點：（Fusion）約2950℃
. 硬度：（Hardness）HV2500 kg/cm2
. 化學穩定性：（Chemistry）不溶于大多數酸或鹼
. 熱分解溫度：（Heate resolve Temperature）900℃
. 動磨擦系數：（Move rub Coefficient）0.11-0.15-TIN
. 耐腐蝕性：（Wearability）在人工汗液中，腐蝕度比不銹鋼、
鍍鉻層低、室溫下年腐蝕度幾乎為
. 真空離子鍍主要使用領域用途：
. 離子清洗、轟擊、刻蝕、沈積
. 離子加熱、滲透、注入
. 磁控濺射
. 電弧蒸發、離子化
. 相關領域的用途
. TIN鍍層技術指標：
. 熔點：（Fusion）約2950℃
. 硬度：（Hardness）HV2500 kg/cm2
. 化學穩定性：（Chemistry）不溶于大多數酸或鹼
. 熱分解溫度：（Heate resolve Temperature）900℃
. 動磨擦系數：（Move rub Coefficient）0.11-0.15-TIN
. 耐腐蝕性：（Wearability）在人工汗液中，腐蝕度比不銹鋼、
鍍鉻層低、室溫下年腐蝕度幾乎為
