二氧化鈦高速研磨分散機,二氧化鈦高剪切分散機,納米二氧化鈦分散機,二氧化鈦納米均質(zhì)分散機,化工研磨分散機，二氧化硅高剪切均質(zhì)機，納米二氧化硅超高速分散機

二氧化鈦適用十分廣泛，如油漆、防曬霜和藥片包衣。通常市場上都提供不同級別的粉末產(chǎn)品，但是實際使用時還會對細度提出新的要求。同時，這類粉體碰到液體時極易團聚，這就成為了二氧化鈦的分散的一個難點。SGN系列混合分散設(shè)備為快速分散而設(shè)計，達到窄粒徑分布，并防止結(jié)塊。

IKN研磨分散機用于二氧化鈦分散和研磨的優(yōu)點

一、縮短工藝時間。IKN高剪切乳化分散設(shè)備可以迅速地混合分散二氧化鈦粉末，并消除結(jié)塊和團聚。IKN也提供PLD和PLG粉體/液體混合機，將粉體直接加入液體，無需循環(huán)處理，一次性通過便可成型。

二、提高品質(zhì)。IKN高剪切混合機可以打碎結(jié)塊粉體，并與液體充分混合。這樣可以改善產(chǎn)品光澤和透明度，這兩個特征由分散好壞直接決定。

三、減少資金投入。IKN磨機可以更大程度縮小粒徑，達到窄粒徑分布。SGN分散研磨設(shè)備的流量比同類研磨設(shè)備高出很多，但也可達到相類似的效果。模塊化設(shè)計的IKN 2000系列產(chǎn)品，可以幫助客戶節(jié)約資金投資。

CMD2000系列研磨分散設(shè)備是IKN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料，然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

IKN研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

**級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。

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CMD2000系列研磨分散機的特點

①   線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨

②   定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③   定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

④   在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

⑤   高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

CMD2000系列研磨分散設(shè)備選型表

1表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。

2處理量取決于物料的粘度，稠度和#終產(chǎn)品的要求。

從設(shè)備角度來分析，影響研磨分散機效果因素有以下幾點:

1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)

2.研磨頭的剪切速率，(越大效果越好)

3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好)

4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間(可以看作同等電機，流量越小效果越好)

5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好，到設(shè)備的期限就不能再好了。)

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