- 企業類型：制造商
- 新舊程度：全新
TDM-200膜層監控儀適用于高頻濺射、直流濺射、電阻蒸發、離子束、電子束等鍍膜應用場合，在線測量膜層的厚度，可用于批量生產，也可用于薄膜材料研究。本儀器具有高速高測量系統，可提高鍍膜的質量和可重復性，具有穩定、易于操作、配置靈活的特點。還提供了監測和控制功能，您可通過液晶顯示屏連續獲取沉積速率、厚度和晶片頻率；并可通過計算機記錄數據并實時描繪厚度曲線和速率曲線。 ▲ TDM-200型膜層控制儀采用全中文人機操作界面,方便您的編程和操作。 ▲ 頻率計算和顯示分辨率達到0.1Hz，計算速率達到每秒四次，為您制備薄膜提供了有力支持。 ▲提供了RS-232接口，您可對鍍膜過程進行遙控。并可通過計算機實時描繪厚度曲線和速率曲線。 ▲對于多層膜中的關鍵膜層，您可使用特定的擋板探頭監測，大大提升產品成膜質量和。 ▲可配合多源鍍膜系統，并為您提供了256種材料參數供使用。 ▲ 連續鍍膜還設計了自動監控方式，簡化您的操作。 ▲ 19英寸標準機箱，備有適配電纜，易于安裝至現有的裝置中。 規格
| 測量 頻率計算 ±0.1Hz(在6.0MHz頻率時) 頻率顯示 0.1Hz 測量速率 4Hz 顯示 厚度顯示 000000?～999999? 速率顯示 000.0～999.9?/s 時間顯示 00:00:00～23:59:59（時:分:秒）層數 01～99層圖形顯示 240x64LCD，低功耗LED背光 存儲能力 層 99層材料庫 256種材料參數 膜層參數 層 01～99 厚度 000000～999999 ? 材料 分子式（長10個字符）密度 00.00～99.99g/cm3 工具因子 00.00～99.99 Z因子 00.00～99.99 探頭 A、B、C、D 探頭擋板 “無”或 “有” | 系統參數 擋板延遲 00:00～99:99(分:秒) 鍍膜方式 “單層”、“多層” 控制方式 “手動”、“自動” 啟動延遲 00:00～99:99(分:秒) 輸出控制能力 源擋板 4個探頭擋板 4個 監控能力 源 4個探頭數量 4個 通信 通訊接口 標配RS-232串行口 Windows軟件 隨機附帶 其它 供電要求 220V（±5%），50Hz， 功率<30W 工作溫度 0℃～50℃ 儀器尺寸 112 x 480x360（高x寬x 深），可用于19’標準工業 機架儀器重量 5.0Kg |
