TDC-200膜層控制儀在線測量和控制鍍膜的速率和膜層的厚度，具有閉環控制沉積速率，與光學控制設備配合使用，可完成復雜的光學鍍膜。本儀器可以控制單層或多層膜的沉積，通過對沉積工藝的數字化控制，大幅提高鍍膜的質量和可重復性。可使用全自動模式來完成復雜膜系的制備，同時又提供了半自動和手動的控制方式，與自動化程度不同的鍍膜設備協同工作。   ▲ 配置     TDC-200膜層控制儀可支持標準單探頭、帶擋板單探頭和帶擋板雙探頭。     TDC-200膜層控制儀配備了RS-232工業標準通信接口，配合本公司提供的計算機控制軟件，方便用戶在計算機上進行膜系編程，通過計算機進行數據采集和數據分析，實現遠程控制。用戶也可根據本公司提供的通信協議進行二次開發，在自行設計的軟件中集成測量和控制功能，可方便地實現系統集成。     TDC-200膜層控制儀具有16個獨立輸入/輸出端口。具有兩個高的源控制電壓輸出，以配合有兩個源的真空鍍膜設備，特別是在進行多層鍍膜時，大大提高了控制,進而提高鍍膜質量。 ▲ 編程     TDC-200型膜層控制儀采用全中文人機操作界面,易于使用。配備256x128大型圖形點陣LCD，低功耗LED背光，整屏顯示內容多，并支持滾屏，用戶編程和操作方便快捷。       TDC-200膜層控制儀具有5個可編程工藝膜系，每個工藝膜系多能設定99層，共計495個膜層。包含一個267種材料的材料參數庫，其中已定義的材料為257種，未定義的材料10種，可由用戶自行設定。 ▲ 功能     TDC-200膜層控制儀提供給用戶厚度、速度、功率等實時數據，以便用戶可以對實時數據進行分析，并提供速度曲線和功率曲線，通過觀察過程曲線了解鍍膜情況，方便用戶迅速找到的控制工藝。    TDC-200膜層控制儀采用閉環控制技術穩定材料的沉積速率，與光學控制設備配合使用時，可配合光學測量系統測量膜層的光學厚度，用來補償物理厚度和光學厚度之間的偏差，可以滿足復雜的光學鍍膜工藝要求。     在鍍膜過程中，當晶片無效時，TDC-200膜層控制儀能自動設定中斷，并啟動切換程序，控制雙探頭系統，待晶片切換成功后，繼續恢復鍍膜，以確保多層鍍膜工藝連續性。      規格

測量 頻率計算  0.03Hz(在6.0MHz) 頻率顯示  0.01Hz 測量速率        10Hz 顯示 厚度顯示      000000?～999999? 速率顯示      000.0～999.9 ?/s 功率顯示      00.0～99.9% 時間顯示      00:00:00～23:59:59（時:分:秒）圖形顯示      256x128LCD，低功耗LED背光 存儲能力 膜系            40個層               每膜系99層，共3960層材料庫         已定義257種材料，用戶可再定義                   10種材料 通訊 通訊接口      標配RS-232串行口 WINDOWS軟件  選配

控制能力 膜系               40 層/膜系            01～99 源                   1～2 坩堝                1～12 探頭規格 標準單探頭帶擋板單探頭（可選）帶擋板雙探頭（可選） 探頭數量              可支持2路 源電壓輸出范圍    0～±2.5V                            0～±5V                            0～±10V 輸出能力          16個繼電器,2A 輸入能力          16個隔離通道,可接入交直流                         信號 供電要求          220V（±5%），50Hz，功率                        ≤40W 工作溫度          0℃～50℃ 儀器尺寸          135 x 480x360mm(高x寬x                        深)，可用于19’標準工業機架 儀器重量          5.5Kg