- 品牌/商標：ELLITOP
- 企業類型：制造商
- 新舊程度：全新
ES03是針對科研和工業環境中薄膜測量推出的高多入射角光譜橢偏儀，儀器波長范圍從紫外到近紅外。
注：(1)測量重復性：是指對標準樣品上同一點、同一條件下連續測量30次所計算的標準差。
ES03多入射角光譜橢偏儀用于測量單層和多層納米薄膜的層構參數（如，厚度）和物理參數（如，折射率n、消光系數k），也可用于測量塊狀材料的折射率n和消光系數k。
ES03系列適合于對樣品進行實時和非實時的檢測。
特點：
原子層量級的檢測靈敏度
國際先進的采樣方法、高穩定的器件、高質量的設計和制造工藝實現并保證了能夠測量原子層量級的納米薄膜，膜厚達到0.05nm。秒級的快速測量
快速橢偏采樣方法、高信噪比的信號探測、自動化的測量軟件，在保證高和準確度的同時，10秒內快速完成全光譜橢偏測量。膜厚測量范圍大
膜厚范圍從次納米量級到10微米左右。一鍵式儀器操作
對于常規操作，只需鼠標點擊一個按鈕即可完成復雜的測量、建模、擬合和分析過程，豐富的模型庫和材料庫也同時方便了用戶的操作需求。
應用：
ES03適合于科研和工業產品環境中的新品研發或質量控制。
ES03系列多種光譜范圍可滿足不同應用場合。比如：
- ES03V適合于測量電介質材料、無定形半導體、聚合物等的實時和非實時檢測。
- ES03U適合于很大范圍的材料種類，包括對介質材料、聚合物、半導體、金屬等的實時和非實時檢測，光譜范圍覆蓋半導體的臨界點，這對于測量和控制合成的半導體合金成分非常有用。并且適合于較大的膜厚范圍（從次納米量級到10微米左右）。
ES03可用于測量光面基底上的單層和多層納米薄膜的厚度、折射率n及消光系數k。應用領域包括：微電子、半導體、集成電路、顯示技術、太陽電池、光學薄膜、生命科學、化學、電化學、磁介質存儲、平板顯示、聚合物及金屬表面處理等。
典型應用如：
- 平板顯示：TFT、OLED、等離子顯示板、柔性顯示板等；
- 功能性涂料：增透型、自清潔型、電致變色型、鏡面性光學涂層，以及高分子、油類、Al2O3表面鍍層和處理等；
- 生物和化學工程：有機薄膜、LB膜、SAM膜、蛋白子分子層、薄膜吸附、表面改性處理、液體等
ES03也可用于測量塊狀材料的折射率n和消光系數k。應用領域包括：固體（金屬、半導體、介質等），或液體（純凈物或混合物）。典型應用包括：
- 玻璃新品研發和質量控制等。
技術指標：
| 項目 | 技術指標 |
| 光譜范圍 | ES03V：370-1000nmES03U：245-1000nm |
| 光譜分辨率 | 1.5nm |
| 單次測量時間 | 典型10s,取決于測量模式 |
| 準確度 | δ(Psi): 0.02 ° ,δ(Delta): 0.04° （透射模式測空氣時） |
| 膜厚測量重復性（1） | 0.05nm (對于平面Si基底上100nm的SiO2膜層) |
| 折射率測量重復性（1） | 1x10-3 (對于平面Si基底上100nm的SiO2膜層) |
| 入射角度 | 40°-90°手動調節，步距5°，重復性0.02° |
| 光學結構 | PSCA（Δ在0°或180°附近時也具有極高的準確度） |
| 樣品臺尺寸 | 可放置樣品尺寸：直徑170 mm |
| 樣品方位調整 | 高度調節范圍：0-10mm |
| 二維俯仰調節：±4° | |
| 樣品對準 | 光學自準直顯微和望遠對準系統 |
| 軟件 | ?多語言界面切換 |
| ?預設項目供快捷操作使用 | |
| ?安全的權限管理模式（管理員、操作員） | |
| ?方便的材料數據庫以及多種色散模型庫 | |
| ?豐富的模型數據庫 | |
| 選配件 | 自動掃描樣品臺聚焦透鏡 |
