- 品牌/商標：ELLITOP
- 企業類型：制造商
- 新舊程度：全新
- 原產地：北京
ETInLineSys是根據鍍膜機在線高測量要求，專門研發的橢偏測量系統，在此系統中，橢偏測量部件與鍍膜機集成為一體。 ETInLineSys可用于真空熱蒸發鍍膜機、離子濺射鍍膜機、原子層沉積鍍膜機等多種原理的鍍膜機。可在線測量光滑平面基底上的納米薄膜，包括單層或多層納米薄膜樣品的膜層厚度、折射率n和消光系數k；并可測量塊狀材料的折射率n和消光系數k。 ETInLineSys融合量拓科技在高激光橢偏儀的先進設計技術和橢偏產品制造方面的經驗，性能穩定、可靠。
注：（1）測量重復性：是指對標準樣品上同一點、同一條件下連續測量30次所計算的標準差。
特點:
- 快速在線鍍膜樣品測量可對樣品進行快速在線監測，實時反饋鍍膜的真實信息。
- 系統可選的靈活配置根據用戶實際檢測需求，可靈活選用激光橢偏儀、光譜橢偏儀部件等進行系統配置。
- 原子層量級的膜厚分析采用非接觸、無破壞性的橢偏測量技術，對納米薄膜達到極高的測量準確度和靈敏度，膜厚測量靈敏度可達到0.05nm。
- 簡單方便安全的儀器操作用戶利用測量軟件可方便地進行實時監測，豐富的模型庫、材料庫方便用戶進行測量設置。
應用:
ETInLineSys適合于多種鍍膜機在線納米薄膜的測量。ETInLineSys可用于測量納米薄膜樣品上單層或多層納米薄膜層構樣品的薄膜厚度、折射率n及消光系數k；
ETInLineSys可用于測量塊狀材料的折射率n及消光系數k；
ETInLineSys可應用于：
- 真空離子蒸發鍍膜機
- 薄磁控濺射鍍膜機量
- ALD原子層沉積鍍膜機
- MBE分子束外延鍍膜機
- PLD激光濺射沉積鍍膜機
技術指標:
| 項目 | 技術指標 |
| 系統型號 | ETInLineSys |
| 結構類型 | 在線式 |
| 探頭形式 | 激光橢偏儀或光譜橢偏儀 |
| 膜厚測量重復性（1） | 0.1nm (對于Si基底上100nm的SiO2膜層) |
| 折射率n測量重復性（1） | 5x10-4 (對于Si基底上100nm的SiO2膜層) |
| 樣品放置 | 鍍膜機內 |
| 入射角度 | 根據實際設計 |
| 測量速度 | 對于激光橢偏儀，典型0.2s~0.6s |
| 軟件 | 多語言見面切換預設項目供快捷操作使用運安全的權限管理模式（管理員、操作員）方便的材料數據庫以及多種色散模型庫豐富的預設模型數據庫 |
性能保證
- 高性能器件、高的采樣方法，保證了系統的高準確度
- 穩定可靠的結構設計，保證了系統的長期穩定性
- 與鍍膜機集成式的一體化設計集成式的結構設計，使得系統操作簡單、整體穩定性提高
- 的在線軟件設計以及豐富的物理模型庫和材料數據庫，方便用戶使用
可選配件：
- NFS-SiO2/Si二氧化硅納米薄膜標片
- NFS-Si3N4/Si氮化硅納米薄膜標片
