AME-8100等離子體刻蝕機用于反應離子蝕刻氧化物，氮化物。可針對4"，5"或6"晶圓。
等離子體刻蝕機用于反應離子蝕刻氧化物，氮化物。可針對4"，5"或6"晶圓。
設備描述：
1、真空系統：愛德華干泵＋I冷凝泵＋LEYBOLD分子泵
2、真空檢測：TC guage＋ION gauge＋MKS薄膜壓力規
3、過程檢測：激光薄膜厚度檢測
4、工作氣體：5路工作氣體＋環行布氣系統
5、工件尺寸：4寸-6寸，可改進到更大尺寸。如4寸，可裝載24片
6、工作電源：射頻功率源＋匹配箱
7、控制系統：全自動工藝流程，高集成控制系統
8、保護：考慮因素，人性話設計。
等離子體刻蝕機用于反應離子蝕刻氧化物，氮化物。可針對4"，5"或6"晶圓。
設備描述：
1、真空系統：愛德華干泵＋I冷凝泵＋LEYBOLD分子泵
2、真空檢測：TC guage＋ION gauge＋MKS薄膜壓力規
3、過程檢測：激光薄膜厚度檢測
4、工作氣體：5路工作氣體＋環行布氣系統
5、工件尺寸：4寸-6寸，可改進到更大尺寸。如4寸，可裝載24片
6、工作電源：射頻功率源＋匹配箱
7、控制系統：全自動工藝流程，高集成控制系統
8、保護：考慮因素，人性話設計。
